[发明专利]一种微纳米生产粉尘泄露源的同位素法定位检测方法

权利要求书

1.一种微纳米生产粉尘泄露源的同位素法定位检测方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：以同位素标记多肽代替表面改性剂中的多肽，并与表面改性剂中其他成分均匀混合；

步骤2：利用含有同位素标记多肽的表面改性剂，对半成品微纳米粉体进行均匀改性和标记；

步骤3：将标记改性后的微纳米粉体在气流粉碎机上正常生产；

步骤4：对生产线沿线区域和整个车间，进行同位素放射性检测；

步骤5：基于车间内放射性强度数据，绘制生产车间内粉尘浓度的分布图，并根据粉尘浓度分布，定位粉尘泄漏源和粉尘集中分布区域。

2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述同位素为碳-14或氚。

3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述同位素标记多肽也可以是同位素标记氨基酸。

4.根据权利要求3所述的检测方法，其特征在于，所述同位素标记多肽或氨基酸为商品化同位素标记多肽或氨基酸。

5.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，表面改性剂成分为铝酸酯DL-411偶联剂，硅烷KH-570偶联剂，硬脂酸，无水乙醇，去离子水，多肽或氨基酸；其中铝酸酯DL-411偶联剂占总成分的0.2%~0.5%，硅烷KH-570偶联剂占总成分的0.2%~0.5%，硬脂酸占总成分的0.3%~0.5%，无水乙醇占总成分的0.5%~1%，去离子水占总成分的0.2%~0.5%，多肽或氨基酸占总成分的0.5%~1%，其余成分为微纳米粉体。

6.根据权利要求5所述的检测方法，其特征在于，所述微纳米粉体为纳米二氧化钛或纳米氧化锌。

7.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，步骤1中所述同位素标记多肽使用量为每公斤微纳米粉体的放射量1~10个微居里，即1~10 μCi/kg。

8.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，步骤4中所述的生产线沿线区域的放射性检测数据为整个车间数据检测个数的1/3以上，整个车间的放射性数据检测个数为30以上。

9.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，步骤4中所述放射性数据检测时间为生产5分钟以后至生产结束5分钟以内。