[发明专利]含四苯基硅和咔唑单元的聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种含四苯基硅和咔唑单元的聚合物，其特征在于，该聚合物具有如下结构式：

式中，R为C₁～C₂₀的烷基，n为10～100的整数。

2.一种含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

分别提供如下结构式表示的化合物A和B，

其中，化合物A中，R为C₁～C₂₀的烷基；

在无氧环境下，将摩尔比为1:1~1.2的化合物A和B加入含有催化剂和碱溶液的有机溶剂中溶解后，于70～130°C下进行Suzuki耦合反应12～96小时，降温后停止聚合反应，将反应液分离提纯，即得如下结构式表示的所述聚合物：

式中，n为10～100的整数。

3.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂为甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃中的至少一种。

4.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，所述催化剂为双三苯基膦二氯化钯或四三苯基膦钯；所述催化剂与化合物A的摩尔比为1:20~1:100。

5.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，所述催化剂为摩尔比为1:4～8的醋酸钯与三邻甲苯基膦混合物或者摩尔比为1:4～8的三二氩苄基丙酮二钯与2-双环己基膦-2’,6’-二甲氧基联苯混合物；所述催化剂与化合物A的摩尔比为1:20~1:100。

6.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，所述碱溶液选自碳酸钠溶液、碳酸钾溶液及碳酸氢钠溶液中的至少一种；所述碱溶液的摩尔浓度为2mol/L；所述碱溶液中，碱与化合物A的摩尔比为20:1。

7.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，所述Suzuki耦合反应的反应温度为90～120°C，反应时间为24～72小时。

8.根据权利要求2所述的含四苯基硅和咔唑单元的聚合物的制备方法，其特征在于，Suzuki耦合反应停止后，对反应液的分离提纯过程包括如下步骤：

向反应液中加入甲醇沉析，通过索氏提取器过滤沉析物，接着依次用甲醇和正己烷抽提，然后以氯仿为溶剂抽提，收集氯仿溶液并旋干，真空下50°C干燥24h后，得到所述聚合物。

9.一种权利要求1所述的聚合物在有机电致发光器件中作为发光层材料的应用。