[发明专利]场发射平面光源

权利要求书

1.一种场发射平面光源，其特征在于，包括：

阳极，包括阳极基板及层叠于所述阳极基板上的发光层；

出光板，与所述发光层相对；

散热装置，设置于所述阳极基板远离所述发光层的一侧；

两个阴极，每个阴极包括阴极基板，每个阴极基板分别连接所述阳极基板和出光板，两个阴极基板相对所述阳极基板倾斜设置，且所述每个阴极基板上设置有阴极引出电极；及

两个电子束发射体，每个电子束发射体包括具有弧形面的衬底，两个衬底分别设置于所述两个阴极的阴极基板上并与所述阴极引出电极接触，所述两个衬底的弧形面相对，且均朝向所述发光层。

2.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述两个阴极以穿过所述阳极基板的几何中心、且与所述阳极基板垂直的轴线为对称轴，对称地设置于所述阳极的一侧。

3.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述每个阴极还包括两个金属片栅极，所述阴极基板上设置有两个栅极引出电极，所述两个栅极引出电极分别与所述两个金属片栅极连接，所述衬底设置于所述两个金属片栅极之间。

4.根据权利要求3所述的场发射平面光源，其特征在于，所述衬底为半圆柱形或半椭圆柱形，且所述衬底的与弧形面相对的平面与所述阴极引出电极接触，所述衬底的弧形面上形成有纳米材料层。

5.根据权利要求2所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阴极基板设置有所述衬底的表面与所述发光层的与所述出光板相对的表面所成的角度为30°～60°。

6.根据权利要求3所述的场发射平面光源，其特征在于，所述金属片栅极为弧形金属片。

7.根据权利要求4所述的场发射平面光源，其特征在于，所述纳米材料层由碳纳米管、碳纳米墙、氧化锌纳米线、氧化锌纳米棒、四角形纳米氧化锌或氧化铁纳米线形成。

8.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阳极还包括导电层，所述导电层层叠于所述阳极基板上，所述发光层层叠于所述导电层上。

9.根据权利要求8所述的场发射平面光源，其特征在于，所述阳极还包括反光层，所述反光层层叠于所述导电层上，所述发光层层叠于所述反光层上。

10.根据权利要求1所述的场发射平面光源，其特征在于，还包括支撑隔离体，所述支撑隔离体连接所述阳极和出光板，且所述阳极、出光板及支撑隔离体围成收容腔，所述阴极和电子束发射体收容于所述收容腔中。