[发明专利]一种用于半导体厂房的洁净室

权利要求书

1. 一种用于半导体厂房的洁净室，包括新风输送系统、排气系统和一大型洁净空间，所述大型洁净空间内具有中央走道(1)和至少一条生产走道(2)；

所述大型洁净空间从上到下包括架构空间(4)、洁净空间(5)和循环空间(6)，架构空间和洁净空间之间设有天花板(7)，洁净空间和循环空间之间设有高架地板(10)和混凝土板(11)；其特征在于：

所述生产走道的四周围设有隔板(8)，使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构；所述隔板底部与天花板之间的距离至少为60cm，隔板底部与高架地板之间的距离至少为2m；

所述洁净微环境的顶部设有上密封板(13)，其底部设有下密封板(12)，所述下密封板的宽度小于上密封板的宽度；

所述生产走道的天花板下设有至少一个通风管(20)，构成洁净微环境结构的回风通道(18)；连接管的顶端设于天花板上并与所述架构空间连通，其尾端位于洁净微环境结构的洁净空间内；

所述洁净微环境结构内设有化学过滤器(16)；

所述洁净微环境的顶部设有第二新风输送系统(17)，使所述独立的洁净微环境结构中的气压大于其外部的大型洁净空间中的气压。

2. 根据权利要求1所述的用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述下密封板设于高架地板和混凝土板之间。

3. 根据权利要求1所述的用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述化学过滤器设于天花板上的风机滤器单元(9)的入风口处。

4. 根据权利要求1所述的用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述中央走道的四周围设有隔板，使其所在的至少一部分架构空间、洁净空间，以及高架地板所在的空间构成独立的洁净微环境结构；

所述中央走道的内围设有第二隔板，第二隔板设于所述隔板的内侧，隔板和第二隔板之间的天花板镂空，使隔板和第二隔板之间的架构空间和洁净空间构成回风通道。

5. 根据权利要求4所述的用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述中央走道所在的洁净微环境结构的下密封板上设有气体调节风门。

6. 根据权利要求1所述的用于半导体厂房的洁净室，其特征在于：所述隔板底部与高架地板之间的距离为2~4m。