[发明专利]一种叠层有机电致发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种叠层有机电致发光器件，其特征在于，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、电荷产生层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、电子注入层和阴极，所述电荷产生层包括依次层叠的n型掺杂层、金属单质掺杂层和金属氧化物层；所述n型掺杂层的材质为功函数为4.0～6.0eV的金属与n型金属氧化物按质量比为0.05:1～0.3:1的比例形成的混合材料，所述n型金属氧化物为氧化锌或二氧化钛；所述金属单质掺杂层为功函数为2.0～4.0eV的金属和功函数为4.0～6.0eV的金属按质量比为1:1～20:1形成的混合材料；所述金属氧化物层材质为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒。

2.如权利要求1所述的叠层有机电致发光器件，其特征在于，所述n型掺杂层厚度为10～40nm；所述金属单质掺杂层厚度为1～20nm；所述金属氧化物层厚度为10～30nm。

3.如权利要求1所述的叠层有机电致发光器件，其特征在于，所述功函数为2.0～4.0eV的金属为镁、钙或镱。

4.如权利要求1所述的叠层有机电致发光器件，其特征在于，所述功函数为4.0～6.0eV的金属为银、铝、铂或金。

5.一种叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下操作步骤：

提供所需尺寸阳极，清洗后干燥；

在所述阳极表面依次蒸镀空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层和电荷产生层；所述电荷产生层包括依次层叠的n型掺杂层、金属单质掺杂层和金属氧化物层；所述n型掺杂层的材质为功函数为4.0～6.0eV的金属与n型金属氧化物按质量比为0.05:1～0.3:1的比例形成的混合材料，所述n型金属氧化物为氧化锌或二氧化钛；所述金属单质掺杂层为功函数为2.0～4.0eV的金属和功函数为4.0～6.0eV的金属按质量比为1:1～20:1形成的混合材料；所述金属氧化物层材质为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒；所述n型掺杂层、金属单质掺杂层和金属氧化物层的蒸镀条件均为：蒸镀压强为2×10^-4～5×10^-3Pa，蒸镀速率为1～10nm/s；

在电荷产生层上依次蒸镀第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、电子注入层和阴极，最终得到叠层有机电致发光器件。

6.如权利要求5所述的叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述n型掺杂层厚度为10～40nm，所述金属单质掺杂层厚度为1～20nm；所述金属氧化物层厚度为10～30nm。

7.如权利要求5所述的叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述功函数为2.0～4.0eV的金属为镁、钙或镱。

8.如权利要求5所述的叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述功函数为4.0～6.0eV的金属为银、铝、铂或金。

9.如权利要求5所述的叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述空穴注入层和阴极的蒸镀条件均为：蒸镀压强为2×10^-4～5×10^-3Pa，蒸镀速率为1～10nm/s。

10.如权利要求5所述的叠层有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、电子注入层蒸镀条件均为：蒸镀压强为2×10^-4～5×10^-3Pa，蒸镀速率为0.1～1nm/s。