[发明专利]一种叠层有机电致发光器件及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光领域，特别涉及一种叠层有机电致发光器件及其制备方法。

背景技术

1987年，美国Eastman Kodak公司的C.W.Tang和VanSlyke报道了有机电致发光研究中的突破性进展。利用超薄薄膜技术制备出了高亮度，高效率的双层有机电致发光器件（OLED）。10V下亮度达到1000cd/m²，其发光效率为1.51lm/W，寿命大于100小时。

OLED的发光原理是基于在外加电场的作用下，电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道（LUMO），而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道（HOMO）。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子，激子在电场作用下迁移，将能量传递给发光材料，并激发电子从基态跃迁到激发态，激发态能量通过辐射失活，产生光子，释放光能。目前，为了提高发光亮度和发光效率，越来越多的研究是以叠层器件为主，这种结构通常是用电荷产生层作为连接层把数个发光单元串联起来，与单元器件相比，叠层结构器件往往具有成倍的电流效率和发光亮度，目前研究的比较多的是利用两种或两种以上具有空穴注入或电子注入的材料作为电荷生成层（如Cs:BCP/V₂O₅），或者是n型和p型掺杂层作为电荷产生层（如n型(Alq₃:Li)和p型(NPB:FeCl₃)）、或者是Al-WO₃-Au等顺序连接多个发光单元而构成，但是这种器件光透过率和发光效率都较低，不利于叠层有机电致发光器件的进一步应用。同时，这种电荷产生层的制备至少需要进行两次以上的工序，给制备带来一定的复杂性。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种叠层有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、电荷产生层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、电子注入层和阴极，所述电荷产生层包括依次层叠的金属氧化物层、n型掺杂层和金属氧化物掺杂层，所述金属氧化物层可以提高电子传输速率。所述n型掺杂层可以提高电荷产生层的稳定性和光散射作用，同时，既可以提供电子又可以提供空穴，极大的提高了电荷的再生能力；所述金属氧化物掺杂层在提高空穴传输速率的同时，由于这种金属氧化物是无定形结构，这种形态可以抑制多晶的空穴传输材料的结晶，避免电子陷阱的存在；同时，本发明还提供一种上述叠层有机电致发光器件的制备方法。

第一方面，本发明提供了一种叠层有机电致发光器件，包括依次层叠的阳极、空穴注入层、第一空穴传输层、第一发光层、第一电子传输层、电荷产生层、第二空穴传输层、第二发光层、第二电子传输层、电子注入层和阴极，所述电荷产生层包括依次层叠的金属氧化物层、n型掺杂层和金属氧化物掺杂层；所述金属氧化物层材质为三氧化钼（MoO₃）、三氧化钨（WO₃）或五氧化二钒（V₂O₅）；所述n型掺杂层的材质为金属单质与n型金属氧化物按质量比为0.05:1～0.2:1的比例形成的混合材料，所述n型金属氧化物为氧化锌（ZnO）、氧化镁（MgO）或氧化锆（ZrO₂）；所述金属氧化物掺杂层材质为有机空穴传输材料和金属氧化物按质量比为0.2:1～0.6:1形成的混合材料；所述金属氧化物为三氧化钼（MoO₃）、三氧化钨（WO₃）或五氧化二钒（V₂O₅）；所述有机空穴传输材料为1,1-二[4-[N,N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷（TAPC）、N,N′-（1-萘基）-N,N′-二苯基-4,4′-联苯二胺（NPB）或N,N′-二苯基-N,N′-(3-甲基苯基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺（TPD）。

优选地，所述金属氧化物层厚度为5～20nm。

优选地，所述n型掺杂层中的金属单质为银（Ag）、铝（Al）、铂（Pt）或金（Au），所述n型掺杂层的厚度为5～20nm。

优选地，所述金属氧化物掺杂层厚度为1～10nm。

优选地，所述阳极基底为铟锡氧化物玻璃（ITO）、铝锌氧化物玻璃（AZO）或铟锌氧化物玻璃（IZO），优选为ITO。

优选地，所述空穴注入层材质为三氧化钼（MoO₃）、三氧化钨（WO₃）或五氧化二钒（V₂O₅），厚度为20～80nm；