[发明专利]彩色膜层掩模板、彩色滤光片的制作方法及彩色滤光片

权利要求书

1.一种彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，该彩色膜层掩模板上的透光区设有光线调节结构，该光线调节结构设置在与彩色膜层上柱状隔垫物基底相对应的位置。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，所述光线调节结构为狭缝结构，该狭缝结构包括一个或多个相互平行设置的狭缝；所述狭缝的方向与透光区长度方向相垂直。

3.根据权利要求2所述的彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，当所述光线调节结构包括三个以上狭缝时，所述光线调节结构的两侧至中心的狭缝宽度递减，和/或所述狭缝之间的距离从该光线调节结构的两侧至中心递增。

4.根据权利要求2所述的彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，当所述光线调节结构包括三个以上狭缝时，所述光线调节结构的两侧至中心的狭缝宽度递增，和/或所述狭缝之间的距离从该光线调节结构的两侧至中心递减。

5.根据权利要求1所述的彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，所述光线调节结构采用半透膜结构。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板，其特征在于，所述半透膜结构沿透光区长度方向两侧至中间的透过率递减，或者所述半透膜结构沿透光区长度方向两侧至中间位置的透过率递增。

7.一种使用如权利要求1-6任一所述的彩色膜层掩模板制作彩色滤光片的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1.在彩色膜层曝光过程中，通过彩色膜层掩模板上的光线调节结构对彩色膜层上与柱状隔垫物基底位置的曝光率进行调节，最后制成彩色滤光片。

8.根据权利要求7所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，所述步骤S1之前，将彩色膜层以条状或岛状制作在黑色矩阵的上方。

9.根据权利要求7所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，在步骤S1中，通过设置在彩色膜层掩模板上、与柱状隔垫物基底相对应区域的狭缝结构或半透膜结构，对彩色膜层上柱状隔垫物基底位置进行曝光处理。

10.一种彩色滤光片，其特征在于，包括保护膜层和柱状隔垫物，柱状隔垫物设置在保护膜层上与玻璃基板上TFT栅线相对应的位置；保护膜层上的柱状隔垫物基底呈扁平状设置。