[发明专利]一种利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种磁控溅射镀膜工艺，特别是涉及一种镀外缘全封闭带的工艺，主要适用于PVD镀膜技术领域。

背景技术

目前磁控溅射镀膜是属于PVD镀膜方式的一个分支，该镀膜法是指，在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜，由于磁控溅射镀膜机技术具有，成膜工艺处理温度低，瞬间温度不超过200℃，不会热灼伤被镀件，结合强度高，不污染环境，被广泛运用于汽车反光镜、手机面板、汽车内外饰件的镀膜。

由于镀膜产品的多样性决定，需要对产品进行部分区域镀膜，而通常使用的遮蔽式镀膜工装，往往只实现中间部分镀膜边缘部分遮蔽的形式，要实现边缘部分镀膜中间部分遮蔽，通常会选用贴PET薄膜遮蔽，镀膜后再移除，或者使用丝网印刷涂覆遮蔽非镀膜区域，镀膜后再除去涂胶，而以上两种方式成本高，轮廓度偏离大，边缘难以平滑，工艺流程长，增加了不良品产生的几率。如，中国专利公开了公开号为CN 102615875A的一种不连续金属质感银白色薄膜及其镀膜方法，该不连续金属质感银白色薄膜设置于玻璃基板外侧，所述的薄膜通过物理气相沉淀在玻璃基板上，薄膜从玻璃基板向外依次包括若干相互膜层的二氧化钛膜层、二氧化硅膜层并交替设置；该薄膜的镀膜方法包括光学真空镀膜制备银白色薄膜，对镀膜后的产品进行丝网印刷，最后进行膜层褪膜。这种工艺成本高，工艺复杂，轮廓度偏离大，镀膜精确度不高。

另外，中国专利公开了公开号为CN202430282U的一种新型的磁控溅射镀膜基片夹具，该新型的磁控溅射镀膜基片夹具为镂空框架结构，所述镂空框架底部为镂空挡板，覆盖基片背面四边，所述镂空挡板内表面四个角上用螺丝固定安装四个同样大小的垫子，所述镂空框架正上端设置有一挡板。该新型的磁控溅射镀膜基片夹具遮挡边缘部分，无法进行外缘全封闭带的镀膜。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的上述不足，而提供一种可实现镀外缘全封闭带，镀膜精确度高，成膜位置准确，边缘清晰无阴影，成本较低的利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺。

本发明解决上述问题所采用的技术方案是：该利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺，包括如下步骤：

a）对被镀膜片进行CNC加工，轮廓度控制在0.1，通过SPC控制手段，Cpk＞1.33，过止规检查符合+0.1/-0.15。；

b）将被镀膜片进行镀膜清洗；

c）将被镀膜片放入镀膜工装，遮住被镀膜片上的非镀膜部分，使被镀膜片上的镀膜部分裸露在外；

d）将镀膜工装放进磁控溅射镀膜机的镀膜腔体内，镀膜面设置在靶材所在的一侧；

e）按照标准设定镀膜工艺参数；

f）进行镀膜；

g）得到具有外缘全封闭带的镀膜片。

通过高精度加工被镀膜片和镀膜工装来确保批量生产时被镀材料符合镀膜精度要求，实现镀外缘全封闭带，镀膜精确度高，成膜位置准确，边缘清晰无阴影。

本发明所述镀膜工装包括主干框架，主干框架上设置至少一个架设基片的架设单元，所述架设单元包括遮挡片、遮挡片固定梁和被镀膜片支撑固定架，所述遮挡片固定梁的两端固定在主干框架上，该遮挡片固定梁位于主干框架的镀膜面，所述遮挡片上设置有固定孔，遮挡片通过所述固定孔与遮挡片固定梁固定，遮挡片与主干框架平行，所述被镀膜片支撑固定架位于主干框架的非镀膜面，该被镀膜片支撑固定架的一端通过转轴与主干框架活动连接，所述主干框架上设有卡座，被镀膜片支撑固定架的另一端与卡座相配合，所述被镀膜片支撑固定架位于架设单元的上方，所述遮挡片的边缘与所述架设单元的边缘之间有一圈间隙，所述步骤c）中，将被镀膜片支撑固定架打开，用无痕吸盘吸住被镀膜片的非镀膜面，将被镀膜片紧贴遮挡片放置，遮挡片遮住被镀膜片上的非镀膜部分，将被镀膜片支撑固定架合上。遮挡片用于遮蔽被镀膜片的被镀面的非镀膜部分，遮挡片固定梁用于固定遮挡片，被镀膜片支撑固定架用于固定被镀膜片的位置，竖镀时可防止被镀膜片移动，遮挡片的边缘与所述架设单元的边缘之间的一圈间隙使被镀膜片的镀膜部分裸露。

本发明每个架设单元还包括至少三个被镀膜片基准定位支撑点，所述被镀膜片基准定位支撑点位于架设单元的边缘。被镀膜片基准定位支撑点主要起到定位被镀膜片的作用。