[发明专利]可再充电电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201310075097.8 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN103311553B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 郑东浩 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社;罗伯特-博世有限公司
主分类号: H01M4/66 分类号: H01M4/66;H01M10/04
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司11018 代理人: 宋颖娉,康泉
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 充电电池 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种可再充电电池,包括:

电极组件,所述电极组件包括:

第一电极,

第二电极,和

所述第一电极与所述第二电极之间的隔板;以及

容纳所述电极组件的壳体,

其中:

所述第一电极和所述第二电极中的每个电极均包括在集流体上有活性物质层的涂覆区域和不具有所述活性物质层的未涂覆区域,并且

在所述第一电极和所述第二电极中的至少一个电极中,所述集流体的特征在于x射线衍射图案,在所述x射线衍射图案中,所述未涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率大于所述涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率。

2.根据权利要求1所述的可再充电电池,其中所述未涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率是所述涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率的1.3到1.6倍。

3.根据权利要求1所述的可再充电电池,其中在所述至少一个电极中,所述集流体的x射线衍射图案在所述未涂覆区域中具有1.4到2.0的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率。

4.根据权利要求1所述的可再充电电池,其中所述至少一个电极的集流体在所述未涂覆区域中具有比在所述涂覆区域中的平均厚度小的平均厚度。

5.根据权利要求4所述的可再充电电池,其中在所述至少一个电极中,所述未涂覆区域中所述集流体的平均厚度是所述涂覆区域中所述集流体的平均厚度的80%到95%。

6.根据权利要求1所述的可再充电电池,其中所述第一电极和所述第二电极中的每个电极的集流体的特征均在于所述x射线衍射图案,在所述x射线衍射图案中,所述未涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率大于所述涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率。

7.根据权利要求1所述的可再充电电池,其中所述第一电极和所述第二电极中的每个电极的各未涂覆区域分别沿所述集流体的侧端延伸。

8.一种制造可再充电电池的方法,所述方法包括准备电极,使得准备电极包括:

在集流体的一部分上涂覆活性物质,以形成涂覆区域和初步的未涂覆区域,所述初步的未涂覆区域沿所述集流体的一个侧端延伸并且不具有所述活性物质;以及

对所述初步的未涂覆区域中的集流体进行振动锤击来形成未涂覆区域,使得所述集流体的特征在于x射线衍射图案,在所述x射线衍射图案中,所述未涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率大于所述涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率。

9.根据权利要求8所述的方法,其中所述未涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率是所述涂覆区域中所述集流体的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率的1.3到1.6倍。

10.根据权利要求8所述的方法,其中所述集流体的x射线衍射图案在所述未涂覆区域中具有1.4到2.0的最大峰的FWHM与次最大峰的FWHM的比率。

11.根据权利要求8所述的方法,其中所述集流体在所述未涂覆区域中具有比在所述涂覆区域中的平均厚度小的平均厚度。

12.根据权利要求11所述的方法,其中所述未涂覆区域中所述集流体的平均厚度是所述涂覆区域中所述集流体的平均厚度的80%到95%。

13.根据权利要求8所述的方法,其中所述振动锤击包括超声振动锤击。

14.根据权利要求13所述的方法,其中所述超声振动锤击包括:

使所述初步的未涂覆区域沿砧子传送,

用超声振动发生器产生超声振动,以及

用响应于所述超声振动发生器的超声振动而振动的角状器,击打所述初步的未涂覆区域。

15.根据权利要求14所述的方法,其中:

所述砧子具有圆柱形的辊子结构,并且

使所述初步的未涂覆区域沿砧子传送包括沿所述圆柱形的辊子滚动所述初步的未涂覆区域。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社;罗伯特-博世有限公司,未经三星SDI株式会社;罗伯特-博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310075097.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top