[发明专利]咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层及其制备方法和应用

权利要求书

1.咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层，其特征在于，包括：

基底层；

吸收层，设于基底层的顶面，包括内吸收层、中吸收层和外吸收层，其中

内吸收层，设于基底层的顶面，由TiN_x1O_y1制成，1.10＞x1＞0.90,0.70＞y1＞0.50；

中吸收层，设于内吸收层的顶面，由TiN_x2O_y2制成，0.60＞x2＞0.50,1.30＞y2＞1.10；

外吸收层，设于中吸收层的顶面，由TiN_x3O_y3制成，0.50＞x3＞0.40,1.40＞y3＞1.30；

减反层，设于吸收层的顶面，所述减反层的材质为二氧化硅；

其中所述吸收层的厚度为50nm-150nm；其中内吸收层的厚度为30nm-50nm，中吸收层的厚度为10nm-50nm，外吸收层的厚度为10nm-50nm；

所述减反层的厚度为80-100nm。

2.根据权利要求1所述的咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层，其特征在于，其中所述基底层由铝制成。

3.根据权利要求1所述的咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层，其特征在于，其中所述基底层的厚度为0.2-10mm。

4.权利要求1-3任一权项所述的咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)将基底层置于真空清洗室中，通入一定量的氩气，进行射频氩离子清洗；

2)在通入氩气和氮气的条件下，将上述的清洗后的基底层置于钛靶下，采用磁控溅射法在上述的基底层上制备内吸收层；然后通入一定量的氧气，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述内吸收层上制备中吸收层；保持溅射气压不变，将氩气和氮气分别增加至原来的两倍，并增加氧气流量，继续以金属钛为靶材通过反应磁控溅射法在上述中吸收层上制备外吸收层；

3)将步骤2)得到的产品置于硅靶前，通入氩气和氧气，采用反应磁控溅射法在上述外吸收层上制备氧化硅层作为减反层。

5.权利要求1-3任一权项所述的咖啡色太阳能光谱选择性吸收涂层在太阳能集热器上的应用，其中所述太阳能集热器为平板式太阳能集热器或真空管式太阳能集热器。