[发明专利]易拉盖刻线补涂机的真空排污装置

说明书

技术领域

本发明涉及易拉盖制造设备，具体涉及一种马口铁易拉盖枪动式刻线补涂机的真空排污装置。具体，该真空排污装置适用于喷枪旋转式的刻线补涂机。

背景技术

随着人们生活水平的提高，罐装食品越来越多，其金属易拉盖的需求量也越来越大。对于易拉盖生产厂家来说，采用何种易拉盖生产设备是保证质量和产量的关键。

在马口铁全开易拉盖的生产过程中，在刻线后还需用刻线补涂机对刻线处的盖面涂层进行修复补涂，以免刻线处的马口铁钢基层暴露而产生锈蚀。刻线补涂机从原理上看，可分为两类：一是盖动式刻线补涂机，即喷枪保持固定而易拉盖运动；二是枪动式刻线补涂机，即易拉盖固定而喷枪沿着盖面上的刻线运动。

对于盖动式刻线补涂机，由于喷枪不动，排污装置设置简单，吸风入口5可以和喷嘴靠的很近，正对喷出的区域（参看图1），只要使用相对较低速的气流，就可以实现较好的排污效果。但盖动式刻线补涂机易对盖面涂料造成额外划伤，且系统速度低，已无法适应高速连线生产，目前已基本被枪动式取代。

对于枪动式刻线补涂机，是喷枪在刻线上方运动，不论是做平面画圆运动还是绕盖面中轴线旋转，在涂料喷出到落到盖面的整个过程中，喷出的涂料都会受到离心力的作用，涂料在离开喷嘴后，将会发散。高压无气喷涂时，涂料将接近完全雾化，这样大量的涂料将不会落到盖面刻线处，而是四处散落，而上述离心力将使散落的范围增大，造成周围构件的污染。严重时，周围构件将积累出液态的涂料，产生流或滴的现象，会加重盖面和易拉盖输送件的污染。而为了保证刻线的覆盖，高压喷涂需要更多的喷涂量，相应的过喷量（即未落到盖面刻线处的涂料）也会更多，除了污染，也造成了涂料的浪费。为了解决上述问题，近年来低压无气喷涂被广泛用于刻线补涂。此处低压的目的是使涂料离开喷嘴之后，尽量不雾化，而是呈一个液态柱状形式，直接喷到刻线处。这样可以减少过喷和因过喷产生的污染。高压喷涂时雾化的微小涂料颗粒，因颗粒质量很小，在有气流的时候，相对较容易排出。低压喷涂时，涂料的发散和雾化也一定程度存在，但此时污染的主要来源是液态涂料在高速喷到盖面时的反弹飞溅，此处反弹飞溅的液体颗粒相对高压喷涂时的雾化颗粒要大得多，这些大的液态颗粒需要更大的气流才能排出。现有技术中，不论是高压无气喷涂和低压无气喷涂，使用的均是吸真空的方式将过喷的涂料排出。有一种做法是在盖面1及喷枪2整体上方布置一个吸风罩3（参看图2），通过大流量吸风机将过喷涂料排出；另一种做法是在盖面1上方布置一个吸风环4，该吸风环4的内缘一周都是吸风入口5（参看图3）。上述第一种做法对高压无气喷涂有一定效果，第二种做法只能用于低压无气喷涂，因为吸风环4的一周吸风入口很小，远离吸风入口5的过喷涂料将感觉不到真空的吸引。为了能将更大范围的过喷涂料排出，一个方法是增大吸风量，即在吸风入口5不变的情况下增加吸风的气流速度，以带走更多的过喷涂料。但是经过测试发现，过高速的气流反而会使喷向盖面1的液体柱状涂料的方向改变，导致刻线覆盖偏差。再者，吸风环4上的吸风接口6只是位于吸风环4的某一侧（如图3所示），整个吸风环4内部的气流并不均匀，排出过量喷出的涂料在不同角度时效果也不相同。

发明内容

本发明目的是提供一种易拉盖刻线补涂机的真空排污装置，以解决现有喷枪旋转式的刻线补涂机的吸风排污效果不佳的问题。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种易拉盖刻线补涂机的真空排污装置，易拉盖刻线补涂机包括机座、回转轴以及绕该回转轴旋转的喷枪；所述真空排污装置由回转内罩、吸风外罩以及吸风机组成；所述回转内罩的中心与回转轴轴心重合，回转内罩相对回转轴固定由回转轴带动；回转内罩为一圆盘状体，它以盘口朝下罩置于待涂的易拉盖上方，回转内罩的盘口大于待涂的易拉盖的外径；回转内罩的顶面上开设通孔，所述喷枪经该通孔伸置于回转内罩内部；所述吸风外罩套置于回转内罩的外周，且吸风外罩和回转内罩之间存在间隙，吸风外罩相对易拉盖刻线补涂机的机座固定；吸风外罩上环绕回转内罩设有内部环形空腔，吸风外罩的内缘上开设有一圈连通环形空腔的吸风槽；所述回转内罩上对应喷枪的喷嘴位置开设有一径向通道，该径向通道一端指向喷枪的喷嘴，另一端接通所述吸风槽，使回转内罩的内部空间经径向通道、吸风槽接通吸风外罩的环形空腔；所述吸风外罩上设有连通环形空腔的吸风接口，该吸风接口经管道连接吸风机。

上述技术方案的进一步方案如下：