[发明专利]研磨机台及其加工方法有效
申请号: | 201310079609.8 | 申请日: | 2013-03-13 |
公开(公告)号: | CN104002228A | 公开(公告)日: | 2014-08-27 |
发明(设计)人: | 蔡荣峰 | 申请(专利权)人: | 正达国际光电股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/27 | 分类号: | B24B37/27;B24B37/34 |
代理公司: | 深圳市鼎言知识产权代理有限公司 44311 | 代理人: | 孔丽霞 |
地址: | 中国台湾苗栗县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 机台 及其 加工 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种研磨机台及该研磨机台的加工方法。
背景技术
目前,研磨机台上夹持研磨刀具的主轴可沿三维方向进行移动以及绕自身轴向进行转动从而对设置于承载台上的待研磨物体,如玻璃等物体实施研磨加工。然而,在进行研磨时,该主轴在自转并同时三维运动的过程中容易发生抖动从而影响研磨的精度,且研磨工具每次仅能绕一个待研磨物体移动,因此,加工效率不高。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种可同时加工二个待研磨物体的研磨机台及该研磨机台的加工方法。
一种研磨机台,其包括夹持部与承载台,该夹持部夹持一研磨刀具,该夹持部驱动该研磨刀具沿竖直方向相对该承载台运动并同时绕该竖直方向旋转,该承载台上具有至少二承载部用于分别固定至少二待研磨物体;该承载台于实施研磨动作时带动该至少二待研磨物体在水平面内平移,使得研磨刀具相对于承载台沿该至少二待研磨物体之间的路径行进以同时研磨二待研磨物体相对设置的二待研磨面。
一种研磨机台研磨待研磨物体的加工方法,该研磨机台包括研磨刀具及二承载部,该加工方法包括如下步骤:固定二待研磨物体于二承载部上;令承载二待研磨物体的二承载部分设置于研磨刀具相对两侧;开启研磨刀具实施研磨,研磨过程中承载部在水平面内平移,使得该研磨刀具于二待研磨物体之间的路径行进以同时研磨二待研磨物体相对设置的二待研磨面。
相较于现有技术,上述研磨机台同时研磨二待研磨物体的待研磨面,增加加工效率。
附图说明
图1为本发明第一实施方式中研磨机台承载待研磨物体的立体示意图。
图2为图1中研磨机台加工待研磨物体的方法流程图。
主要元件符号说明
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1,研磨机台100包括底座110、承载台120、空间位移部130及研磨刀具200。该空间位移部130设置于该底座110上,该承载台120与研磨刀具200固定于该空间位移部130上。该承载台120用于承载及固定待研磨物体300,该承载台120能够沿空间位移部130的X、Y方向上设置的轨道水平移动,从而带动该待研磨物体300变换相对该研磨刀具200的水平位置。该研磨刀具200能够沿该空间位移部130的Z方向上设置的轨道移动,从而改变该研磨刀具200距离该待研磨物体300的纵向距离,即相对该待研磨物体300的高度。该承载台120及研磨刀具200在空间位移部130的带动下,能够改变研磨刀具200相对于待研磨物体300的相对位置,使二者位于所需的预定位置,达到研磨待研磨物体300的目的。
具体地,该空间位移部130包括第一导轨131、第二导轨132、第三导轨133、夹持部135及驱动马达(图未示)。该第一导轨131沿坐标轴的X轴方向设置于该底座110上,作为该空间位移部130的X向轨道。该第二导轨132沿坐标轴的Y轴方向架设于该第一导轨131上方,作为该空间位移部130的Y向轨道。在驱动马达的带动下,该承载台120能够沿着该第一导轨131及沿该第二导轨132移动,从而改变该承载台120在X-Y平面上的位置。第三导轨133沿坐标轴的Z轴方向,即竖直方向设置于自该底座110的上表面延伸的侧壁111上,作为该空间位移部130的Z向轨道。该夹持部135固定于该第三导轨133上,用于夹持固定该研磨刀具200,并能够在该驱动马达的带动下沿该第三导轨133上、下移动。该夹持部135在驱动马达的带动下可令该研磨刀具200沿该研磨刀具200的竖直对称轴即Z轴方向转动从而实施研磨动作。
该研磨刀具200在本实施方式中为圆柱状磨具。其可根据待研磨物体300待研磨面的厚度对应地于Z轴方向上分层,如利用分割线或者标识线等方式将该研磨刀具200沿Z轴方向上N等分。当利用N等分后的第一研磨部201作多次研磨动作,则第一研磨部201磨损较大,很难保证研磨精度,则利用N等分后的第二研磨部202继续进行研磨动作。该研磨刀具200可以为钻石磨轮、金属刀具及树酯磨轮等。该研磨刀具200也可以为抛光刀具。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于正达国际光电股份有限公司,未经正达国际光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310079609.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。