[发明专利]一种测量杂散光的方法和系统

权利要求书

1.一种测量杂散光的方法，其特征在于：实现杂散光测量的步骤如下：

步骤S1：位移平台初始化，初始化按照执行先后顺序找最佳焦面、找视场中心及方向、照明场视场方向校准、测量系统位置标定；

步骤S2：设置测量系统的测量参数，测量参数包括测试面是选择硅片面和掩模面、相干因子设置、照明模式设置、可变狭缝参数设置和测试点参数设置；

步骤S3：驱动电机带动位移平台对照明光场区域进行扫描，利用点能量探测器对掩模面或硅片面上的一测试点进行光能量探测，将点能量探测器固定在测试点位置，调节可变狭缝的开口大小，从而改变入射到掩模面或硅片面上的光场，可变狭缝的每一开口大小对应着一光能量值，得到同一测试点在可变狭缝不同开口大小的光能量值；

步骤S4：对于照明光场区域内不同的测试点，重复步骤S3测量可变狭缝不同开口大小的不同光能量值；

步骤S5：通过串口通信将光能量值数据存储到计算机中；由计算机对光能量值数据进行数据处理，得到掩模面或硅片面上的每一测试点的杂散光。

2.如权利要求1所述的杂散光测量方法，其特征在于：通过计算机对不同测试点杂散光数据处理，得到掩模面或硅片面的杂散光整场偏差。

3.如权利要求1所述的杂散光测量方法，其特征在于：调节可变狭缝的大小，从而控制到达掩模面或硅片面的光能量总量，所述可变狭缝的开口大小是能调节的狭缝。

4.如权利要求1所述的杂散光测量方法，其特征在于：所使用的能量探测器为点能量探测器。

5.一种杂散光测量系统，其特征在于：该测量系统主要包括：光源、光束扩束单元、光束模式变换单元、相干因子调节单元、匀光单元、可变狭缝、成像单元、掩模面、光刻投影物镜、硅片面、点能量探测器依次位于光路中，点能量探测器位于位移平台上，计算机与位移平台的控制单元连接，其中：

光源，用于输出激光光束；

光束扩束单元，用于对激光光束进行扩束，得到扩束激光光束；

光束模式变换单元，用于对扩束激光光束进行整形，获得整形光束；

相干因子调节单元，用于对整形光束进行相干因子调节，获得目标相干因子光束；

匀光单元，用于对目标相干因子光束做匀光处理，获得匀光光束；

可变狭缝，接收匀光光束，并调节可变狭缝在X方向和Y方向的通光口径的大小，同时控制照明视场对称中心的位置，从而控制照明视场的区域；

成像单元，用于对照明视场的区域生成照射均匀的远心光束；

掩模面，用于调制照射均匀的远心光束；

光刻投影物镜，用于将掩模面的远心光束成像到硅片面上；

硅片面，用于接收光刻投影物镜所成的像；

点能量探测器，用于探测得到硅片面或掩模面上同一测试点的光能量；

位移平台，驱动点能量探测器，通过改变可变狭缝的缝的尺寸大小，再获取不同狭缝尺寸大小的光能量值；

计算机，对不同狭缝尺寸大小的光能量值数据处理，获取不同测试点的杂散光后，计算得到光刻照明系统或整个光刻系统的杂散光整场偏差。

6.如权利要求5所述的杂散光测量系统，其特征在于：相干因子调节单元由变焦组和锥镜组构成，其中：

变焦组，用于对整形光束实现相干因子连续调节；

锥镜组，随着两锥镜之间间距的变化，产生的环形照明内外环宽也发生变化，锥镜的中心圆锥的尖端，起到分割光束的作用。

7.如权利要求5所述的杂散光测量系统，其特征在于：所述匀光单元由微复眼透镜组和聚光镜组构成，其中：

微复眼透镜组，是将入射光分割成许多子光束，分割后的子光束的均匀性优于整个入射光束的均匀性；

聚光镜组，是将分割的子光束叠加在同一区域，光束叠加使各子光束的光能量互相补偿，实现匀光。

8.如权利要求5所述的杂散光测量系统，其特征在于：所述成像单元采用双远心的结构，主要作用是扩大照明视场、减小视场畸变、减小半影效应。