[发明专利]一种多层金属光栅的制备方法

权利要求书

1.一种多层金属光栅的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

1）制备或选取压印模板；

2）在衬底上表面旋涂压一层压印胶；

3）在压印胶的表面镀一金属层；

4）在金属层上表面涂一层保护膜；

5）将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印；

6）对压印胶进行固化处理后，移去压印模具。

2.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，在步骤4）和步骤5）之间进行步骤4a）：

4a)多次反复步骤2）、3）和4）。

3.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，所述的纳米压印为热纳米压印或者紫外曝光压印。

4.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，步骤1）所述的压印模板具有光栅凹槽，光栅是一维周期性或准周期性、二维周期性或准周期性的光栅结构。

5.如权利要求4所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，所述光栅凹槽的形状为矩形或圆形。

6.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，步骤2）所述的衬底材料为玻璃、石英、PET、硅、蓝宝石或氧化铟锡。

7.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，步骤2）所述的压印胶为聚甲基丙烯酸甲酯、二甲基硅氧烷或SU8胶。

8.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，步骤3）所述的金属为金、铂、银、铝、铜、铬、钛或镍，厚度为10nm-100nm。

9.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，其特征在于，步骤3）所述的镀金属层采用磁控溅射法或电子束蒸发镀膜法。

10.如权利要求1所述的多层金属光栅的制备方法，，其特征在于，步骤4）所述的保护膜为聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯或聚四氟乙烯低表面能材料。