[发明专利]光源设备、其驱动方法和光学断层成像装置

权利要求书

1.一种光源设备，至少包括设置在同一基板上的作为第一SLD和第二SLD的两个超辐射发光二极管，

第一SLD和第二SLD包含：

同一活性层，具有含有多个峰值的发光光谱；

合波部分，用于合波分别从第一SLD和第二SLD出射的出射光的光束；以及

光学输出波导，用于输出合波光束，

所述活性层被形成在所述同一基板上，

其中，第一SLD包含用于以第一电流密度驱动第一SLD的第一电极部分，并被构建为使得长波长侧的发光峰值起支配作用，以及

第二SLD包含用于以第二电流密度驱动第二SLD的第二电极部分，并被构建为使得短波长侧的发光峰值起支配作用。

2.根据权利要求1的光源设备，其中，第一SLD在光学波导方向上具有比第二SLD在光学波导方向上的元件长度大的元件长度。

3.根据权利要求1的光源设备，其中，第一电流密度比第二电流密度低。

4.根据权利要求1的光源设备，其中，所述活性层包含单量子阱。

5.根据权利要求4的光源设备，其中，

在长波长侧的发光峰值之中，由基态能级导致的发光起支配作用，以及

在短波长侧的发光峰值之中，由第一能级导致的发光起支配作用。

6.根据权利要求1的光源设备，其中，第一SLD和第二SLD在光学波导方向上具有相同的元件长度。

7.根据权利要求1的光源设备，其中，第一SLD和第二SLD中的至少一个包含在光学波导方向上被分成至少两块的电极。

8.根据权利要求1的光源设备，其中，在第二SLD中，第二电流密度处的短波长侧的发光峰值的峰值强度为长波长侧的发光峰值的峰值强度的两倍或更多倍。

9.根据权利要求1的光源设备，其中，合波部分和光学输出波导至少与所述两个超辐射发光二极管整体地形成。

10.根据权利要求9的光源设备，其中，合波部分和光学输出波导具有与第一SLD和第二SLD的活性层相同的活性层。

11.根据权利要求1的光源设备，其中，合波部分包含电极。

12.一种驱动光源设备的方法，

所述光源设备至少包括设置在同一基板上的作为第一SLD和第二SLD的两个超辐射发光二极管，第一SLD和第二SLD包含：

同一活性层，具有含有多个发光峰值的发光光谱；

合波部分，用于合波分别从第一SLD和第二SLD出射的出射光的光束；以及

光学输出波导，用于输出合波光束，

所述活性层被形成在所述同一基板上，

所述光源设备被配置为从光学输出波导输出在合波部分中合波的光束，

所述方法包括：

以第一电流密度驱动第一SLD，在第一电流密度处发光光谱的长波长侧的发光峰值起支配作用；以及

以第二电流密度驱动第二SLD，在第二电流密度处发光光谱的短波长侧的发光峰值起支配作用。

13.根据权利要求12的驱动光源设备的方法，其中，

第一SLD和第二SLD中的至少一个包含在光学波导方向上被分成至少两块的电极，以及

第一SLD和第二SLD以相互独立地设置的电流密度被驱动。

14.根据权利要求12的驱动光源设备的方法，其中，在从以第一电流密度驱动第一SLD得到的发光光谱和从以第二电流密度驱动第二SLD得到的发光光谱中，满足以下的关系：

1/2A＜B＜2A

这里，“A”代表短波长侧的第一SLD和第二SLD的发光峰值的强度之和，“B”代表长波长侧的第一SLD和第二SLD的发光峰值的强度之和。

15.一种光学断层成像装置，包括：

根据权利要求1至11中的任一项的光源设备；

测量部分，用来自所述光源设备的光照射测量对象以引导从测量对象反射的光；

基准部分，用来自所述光源设备的光照射基准镜以引导从基准镜反射的光；

干涉部分，导致从测量部分反射的光和从基准部分反射的光之间的干涉；

光检测部分，检测来自干涉部分的干涉光；以及

图像处理部分，基于由光检测部分检测的干涉光获得测量对象的断层图像。