[发明专利]用于对量子计数的X射线探测器进行能量校准的方法

权利要求书

1.一种用于对在X射线设备中的量子计数的X射线探测器进行能量校准的方法，该X射线设备具有至少两个可围绕旋转中心转动的X射线系统，所述X射线系统在转动方向上相互错开一个角度地布置，并且其中第一X射线系统具有第一X射线源(1)和相对布置的第一X射线探测器(2)而第二X射线系统具有第二X射线源(3)和相对布置的第二X射线探测器(4)，其中

-如下地在第一X射线源(1)和第一X射线探测器(2)之间定位用于产生X射线荧光辐射的标靶(6)并且利用第一X射线源(1)的X射线辐射辐照该标靶：使得通过第一X射线源(1)的X射线辐射产生X射线荧光辐射，该X射线荧光辐射从所述标靶(6)出发击中第二X射线探测器(4)，并且

-利用所述标靶(6)的X射线荧光辐射实施第二X射线探测器(4)的能量校准。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在第二X射线探测器(4)的校准之前或期间，通过运行第二X射线源(3)来对其进行预处理。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，如下地在第一X射线源(1)和第一X射线探测器(2)之间定位所述标靶(6)：使得在校准第二X射线探测器(4)之后在不改变位置和方向的情况下能够利用第二X射线源(3)的X射线辐射对其进行辐照并且由此所产生的X射线荧光击中第一X射线探测器(2)，并且

在校准第二X射线探测器(4)之后利用第二X射线源(4)的X射线辐射辐照所述标靶(6)并且利用所述标靶(6)的由此所产生的X射线荧光辐射进行第一X射线探测器(2)的能量校准。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，在校准第二X射线探测器(4)之后如下地在第二X射线源(3)和第二X射线探测器(4)之间定位用于产生X射线荧光辐射的标靶(6)并且利用第二X射线源(4)的X射线辐射辐照该标靶：使得通过第二X射线源(4)的X射线辐射产生X射线荧光辐射，该X射线荧光辐射击中第一X射线探测器(2)，并且利用所述标靶(6)的X射线荧光辐射进行第一X射线探测器(2)的能量校准。

5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，在第一X射线探测器(2)校准之前或期间，通过第一X射线源(1)的运行来对其进行预处理。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，使用如下的标靶(6)来产生X射线荧光辐射：该标靶具有由不同材料组成的至少两个区域(10，11，12)。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，如下地布置所述至少两个区域(10，11，12)：使得通过在第一X射线源(1)和/或第二X射线源(3)之前设置至少一个射线光圈分别击中第一X射线探测器(2)和/或第二X射线探测器(4)的X射线荧光辐射能够被限于所述区域(10，11，12)中的每一个。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，通过改变在第一X射线源(1)和/或第二X射线源(3)之前的射线光圈的设置，先后辐照至少两个区域(10，11，12)。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，具有适合产生X射线荧光辐射的材料的区域(10，12)与对于第一X射线源(1)和/或第二X射线源(3)的X射线辐射可穿透的区域(11)交替。

10.一种用于产生X射线荧光辐射的标靶，其适用于实施根据上述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述标靶(6)由第一材料构成，在该第一材料中嵌入由一种或多种第二材料组成的一个或多个区域(10，12)，该第二材料在利用X射线辐射激励时发射X射线荧光辐射。

11.根据权利要求10所述的标靶，其特征在于，所述第一材料对于激励的X射线辐射是可穿透的。

12.根据权利要求10所述的标靶，其特征在于，所述第一材料是水。

13.根据权利要求10至12中任一项所述的标靶，其特征在于，由一种或多种第二材料组成的区域(10，12)与由第一材料组成的区域(11)交替。