[发明专利]石墨膜及石墨复合膜

权利要求书

1.一种石墨膜，其特征在于：采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，

对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即

阈值＝（最大值－最小值）×0.62    （1）

进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。

2.根据权利要求1所述的石墨膜，其特征在于：所述通用图像处理软件是从NANO System株式会社得到的通用图像处理软件。

3.根据权利要求1所述的石墨膜，其特征在于：所述扫描式电子显微镜是日立制S-4500型扫描式电子显微镜。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的石墨膜，其特征在于：所述表面观察的条件是：将各种石墨膜裁切成5mm×5mm，用导电性胶带将其固定在试样台上，将加速电压调到5kV，实施400倍的观察。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的石墨膜，其特征在于：在所述表面SEM图像的拍摄时，工作距离调节为8mm。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的石墨膜，其特征在于：所述石墨膜是通过在2000℃以上的温度下对由高分子膜及／或碳化了的高分子膜形成的原料膜进行热处理而得到的石墨膜。

7.根据权利要求6所述的石墨膜，其特征在于：对经过所述热处理而得到的石墨膜进行压缩处理，在石墨膜表面的凹凸的边界处石墨层重合，形成边界线。

8.根据权利要求7所述的石墨膜，其特征在于：被所述边界线区分的区域的面积的平均值为25μm²以上且10000μm²以下。

9.根据权利要求7所述的石墨膜，其特征在于：被所述边界线区分的区域的面积的平均值为100μm²以上且6400μm²以下。

10.根据权利要求1～3中任一项所述的石墨膜，其特征在于，所述白色区域的面积为1.2%以上且6.5%以下。