[发明专利]用于细胞和组织培养的具有微纳米尺度刚度图形和曲率图形的基底以及制作这种基底的方法

权利要求书

1.一种用于细胞和组织培养的具有微纳米尺度刚度图形和曲率图形的基底，其特征在于，包含以下几个部分：

    一个根基；

    置于所述根基之上的具有第一刚度值的第一个区域，所述第一个区域由大量的分区组成；

    置于根基之上的具有第二刚度值的第二个区域，所述第二个区域由大量的分区组成，所述第二刚度值不同于第一刚度值；

第一个区域的一个或多个分区的一部分和第二个区域的一个或多个部分区域的一部分是这个基底的上表面或上表面的一部分。

2.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述基底的上表面作为第一、第二区域和细胞的界面，即细胞位于所述基底的上表面之上。

3.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述第二个区域的分区布置在第一个区域的相邻两个分区之间的空间中。

4.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述基底中的第二个区域包含一个与根基相接触的材料层，所述第一个区域的各个分区的外表面镶嵌于所述材料层的外表面之中。

5.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：还包含具有第三刚度值的第一个区域，所述第三刚度值与第一个刚度值和第二个刚度值都不相同。

6.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述第一个区域中的每个分区的尺寸在大于等于一纳米到小于等于一毫米的范围内，所述第二个区域中的每个分区的尺寸在大于等于一纳米到小于等于一毫米的范围内。

7.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述第一刚度值大于第二刚度值。

8.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述第一个区域的每个分区包含有一个或多个从根基上表面垂直向上地延伸出来的柱子、非规则形状的颗粒、球体、以及轴线与根基上表面垂直的圆柱体。

9.根据权利要求8所述的基底，其特征在于：所述柱子具有圆形、椭圆形、或多边形的横截面。

10.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述基底中根基的上表面设有位于根基上表面之下的微井阵列，所述微井阵列的各微井中填充有具有第二刚度值的材料，所述根基上表面构成具有高刚度值的高刚度区域，所述微井阵列中的填充区构成具有低刚度值的低刚度区域。

11.根据权利要9所述的基底，其特征在于：所述微井阵列中的各个井具有圆形、椭圆形、或多边形的形状。

12.根据权利要求9所述的基底，其特征在于：微井阵列中的每一个井有不同的开口面积和井深。

13.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述基底中的第一个区域包含一个镂空框架，所述镂空框架包括边界和框壁，所述框壁垂直于边界，所述边界将框壁框住并由框壁和边界形成彼此隔开的一个个格子状的镂空区域，采用填充物将镂空区域填充，所述镂空框架为高刚度区域，所述填充区为低刚度区域。

14.根据权利要求13所述的基底，其特征在于：所述基底中的格子状的镂空区域中的每一个区域具有多边形、圆形、或椭圆形的断面形状。

15.根据权利要求13所述的基底，其特征在于：所述基底中的格子状的镂空区域中的每一个区域具有不同的横截面积。

16.根据权利要求1所述的基底，其特征在于：所述基底的上表面包含一个平面或一个曲面或多个曲面。

17.根据权利要求16所述的基底，其特征在于：所述根基的上表面加工有微井阵列，所述微井阵列的每一个井中装有一个球体或者其他任何几何形状的颗粒，所述球体或几何颗粒的尺寸大于对应的井的尺寸，所述球体或颗粒构成第一个区域，所述各球体或颗粒之间设有填充物，所述填充物具有第二刚度值，所述填充物构成的填充区为第二个区域。

18.根据权利要求16所述的基底，其特征在于：所述第一个区域为高刚度区域，由微纳米尺度的颗粒物组成，所述颗粒物随机的镶嵌在第二个区域中，所述第二个区域为软的低刚度区域。

19.根据权利要求16所述的基底，其特征在于：所述第一个区域为高刚度区域，为微纳米尺度的球体或圆柱体，所述球体或圆柱体随机的镶嵌在第二个区域中，所述第二个区域为软的低刚度区域。