[发明专利]一种等离子切割焊炬的电极及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201310087894.8 申请日: 2013-03-20
公开(公告)号: CN103121143A 公开(公告)日: 2013-05-29
发明(设计)人: 余金湖;杨小泉 申请(专利权)人: 安徽西锐重工科技有限公司
主分类号: B23K10/00 分类号: B23K10/00;B23K35/06;B23K1/008;B23K1/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 246121 安徽省安庆市怀宁*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 切割 电极 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种等离子切割焊炬的电极,包括铜质基体(1)和铪质电极发射体(2),其特征在于:所述的铜质基体(1)的截面形状为“山”字形,铜质基体(1)的底部设有环形槽,所述的铪质电极发射体(2)为环状,且镶嵌在铜质基体(1)的环形槽内;以重量计,铜质基体(1)的铜含量大于99.95%,氧含量小于0.002%,铪质电极发射体(2)中的铪含量大于97%。

2.根据权利要求1所述的等离子切割焊炬的电极,其特征是:所述的环状铪质电极发射体(2)的内外直径比值为0.3—0.6。

3. 根据权利要求2所述的等离子切割焊炬的电极,其特征是:所述的环状铪质电极发射体(2)的外径直径为2.0mm;内径直径为0.7mm。

4. 根据权利要求2所述的等离子切割焊炬的电极,其特征是:所述的环状铪质电极发射体(2)的外径直径为2.0mm,内径直径为1.1mm。

5. 一种如权利要求1所述的等离子切割焊炬的电极制造方法,包括如下步骤:

a将铜加工成截面形状为“山”字形的铜质基体(1),在铜质基体(1)的底部开环形槽,将铪加工成环状的铪质电极发射体(2);

b将a步的铜质基体(1)、铪质电极发射体(2)和钎焊剂,用艾特斯清洗剂浸洗,再用纯净水清洗后放入丙酮中浸洗;

c将b步的铜质基体(1)、铪质电极发射体(2)进行装配,两者之间的装配间隙小于0.05mm,得装配体;

d将钎焊剂放置在c步装配体的铜质基体(1)上,将铜质基体(1)和铪质发射体(2)在真空度小于2×10-2 P的条件下焊接,焊接过程分两次升温和保温过程,第一次升温控制在760℃±30℃时,保温15分钟~30分钟;第二次升温控制在850℃±50℃时,又保温15分钟~30分钟,得焊接体;

e将d步焊接体冷却,即得等离子切割焊炬的电极。

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