[发明专利]抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法

权利要求书

1.一种抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）确定理论膜系，以光学干涉薄膜理论为膜系结构为基础，选取ZnS作为高折射率材料，氟化镱YbF₃为低折射率材料，以600nm为减反射膜为参考波长，分别定义ZnS、Al₂O₃和YbF₃在λ/4的单位光学厚度为H、M和L，在减反射膜基底表面增加一层Al₂O₃层，作为应力匹配和抗激光损伤层，在计算机上，使用膜系设计软件，根据1065nm、1400-1600nm、3000-4000nm三个段减反射膜减反射要求，确定铌酸锂减反射膜的膜系结构；对1040-1080nm、1400-1600nm、3000-4000nm的残余反射率建立设计目标函数，设反射率R(λ_i)理想波长点的反射率，残余反射率R’(λ_i)为理论波长点的残余反射率，w_i为任意波长点权重，则平方和Σw_i (R(λ_i)-R’(λ_i))²为优化评价函数，三个波长上理论目标反射率为0，权重w_i统一设为1，近红外投点密度为5nm，中红外投点密度为40nm；

（2）使用具有石英晶体振荡膜厚控制仪、基于组态软件和PLC硬件控制的全自动镀膜机，根据上述获得的理论膜系结构，制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件；

（3）在镀膜机内装入选定的镀膜材料，采用阻蒸和电子枪混合蒸发的沉积方式，镀膜机按选定的模板控制文件，自动完成减反射膜的制作。

2.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，所述膜系结构为：基板/抗损伤过渡层/光学减反射膜系/空气。

3.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，所述铌酸锂减反射膜的膜系结构为：基板/0.12M4.056H1.054M0.837H1.605L0.534H3.123L/空气，设计参考波长600nm。

4.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，基底材料为铌酸锂，光谱减反射范围1040-1080nm、1400-1600nm、3000-4000nm平均残余反射率小于1%，激光损伤阈值大于3J/cm²。

5.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，ZnS材料采用阻蒸蒸发，Al₂O₃和YbF₃采用电子枪蒸发，厚度监控由石英晶体振荡膜厚控制仪来实现的。

6.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，减反射膜的性能参数为通带平均残余反射率小于1%。

7.如权利要求1所述的抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，根据获得的理论膜系和镀膜机的工具因子，从Essential Macleod软件中导出膜系结构文件，将厚度和膜系结构数据拷贝到EXCEL模板文件，通过转换软件转换为TXT格式文本文件，制作出该膜系在镀膜机自动控制用的模板控制文件。