[发明专利]一种高纯电镀级氧化铜的制备方法

权利要求书

1.一种高纯电镀级氧化铜的制备方法，以酸性蚀刻废液为原料，在制得氧化铜粗品的基础上，通过添加氧化剂处理有机物，进行二次纯化方法获得高纯电镀级氧化铜粉；所获得的高纯电镀级氧化铜，其纯度在99.0wt%以上，其溶解速率在30s以下。

2.如权利要求1所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，包括如下步骤：

1)中和：将酸性蚀刻废液过滤，去除不溶性固体杂质，与30wt%～50wt%的氢氧化钠水溶液混合，搅拌状态下反应0.5～2小时，获得泥状氧化铜；

2)过滤：对步骤1）获得的泥状氧化铜过滤，使其固液分离得到氧化铜滤饼；

3)洗涤：将步骤2）获得的氧化铜滤饼分散，加入洗涤剂和去离子水洗涤去除金属杂质离子，获得洗涤后的氧化铜；其中，所述洗涤剂为含有0.001wt%～20wt%电解质的水溶液；

4)干燥、粉碎：将步骤3）获得的洗涤后的氧化铜在40～250℃下干燥1～10小时，然后粉碎；

5)氧化：将步骤4）获得的氧化铜与30wt%～50wt%的硫酸水溶液混合，得到硫酸铜溶液，然后加入氧化剂氧化其中的有机物，搅拌状态下反应0.5～2小时，使有机物氧化分解或降解，并同时将溶液中可能含有的Cu⁺变成Cu²⁺，过滤；

6)中和：将步骤5）获得的过滤溶液与30wt%～50wt%的氢氧化钠水溶液混合，搅拌状态下反应0.5～2小时，再次得到泥状氧化铜；

7)过滤、水洗：将步骤6）所得的泥状氧化铜先过滤，再用去离子水洗涤；

8)干燥、粉碎、筛分：将步骤7）获得的洗涤到中性的氧化铜在40～250℃下干燥1～10小时，然后粉碎、筛分，获得所述高纯电镀级氧化铜。

3.如权利要求2所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，其特征在于，步骤5）中所述氧化剂为过氧化氢、过氧化盐、过硫酸盐或者它们的混合物和/或复合物。

4.如权利要求2所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，其特征在于，步骤3）中所述洗涤剂为含有0.05wt%～5wt%电解质的溶液。

5.如权利要求2或4所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，其特征在于，步骤3）中所述电解质为碳酸盐、碳酸氢盐、硫酸盐、硝酸盐、铵盐和氨水中的一种或一种以上。

6.如权利要求2所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，其特征在于，所述步骤2）、5）、7）过滤采用压滤、抽滤或离心分离的方式。

7.如权利要求2所述的高纯电镀级氧化铜的制备方法，其特征在于，步骤8）中获得的电镀级氧化铜的目数为100～500目。