[发明专利]晶圆堆栈结构及方法有效
申请号: | 201310095231.0 | 申请日: | 2013-03-22 |
公开(公告)号: | CN103325740A | 公开(公告)日: | 2013-09-25 |
发明(设计)人: | 颜裕林;林锡坚;何彦仕 | 申请(专利权)人: | 精材科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/13 | 分类号: | H01L23/13;H01L21/58 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 中国台湾桃园县中*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 堆栈 结构 方法 | ||
1.一种晶圆堆栈结构,其特征在于,包括:
基板;
坝块,其设于该基板上,且该坝块的表面上具有凸部;以及
晶圆,其设于该坝块上,且该凸部嵌固于该晶圆中。
2.根据权利要求1所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该基板为硅基板或玻璃板。
3.根据权利要求1所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该晶圆还与该凸部相嵌。
4.根据权利要求1所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该坝块至少分为结合该基板的第一层与结合该晶圆的第二层。
5.根据权利要求4所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该第一层的材质与该第二层的材质相同或不相同。
6.根据权利要求4所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该第一层的材质与该基板的材质相同,且该第二层的材质与该晶圆的材质相同。
7.根据权利要求4所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该第一层为凸部。
8.根据权利要求4所述的晶圆堆栈结构,其特征在于,该第二层为凸部。
9.一种晶圆堆栈方法,其包括:
于一基板上形成坝块,且该坝块的表面上具有凸部;以及结合晶圆于该坝块上,并使该凸部嵌固于该晶圆中。
10.根据权利要求9所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该基板为硅基板或玻璃板。
11.根据权利要求9所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该晶圆还与该凸部相嵌。
12.根据权利要求9所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该坝块至少分为结合该基板的第一层与结合该晶圆的第二层。
13.根据权利要求12所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该第一层的材质与该第二层的材质相同或不相同。
14.根据权利要求12所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该第一层的材质与该基板的材质相同,且该第二层的材质与该晶圆的材质相同。
15.根据权利要求12所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该凸部形成于该第一层上。
16.根据权利要求15所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,还包括:通过形成贯穿该第一层的穿孔,以形成该凸部。
17.根据权利要求12所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,该凸部形成于该第二层上。
18.根据权利要求17所述的晶圆堆栈方法,其特征在于,还包括:通过形成贯穿该第二层的穿孔,以形成该凸部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精材科技股份有限公司,未经精材科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310095231.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。