[发明专利]一种纯钛微弧氧化涂层及其应用

权利要求书

1.纯钛微弧氧化涂层，由基体，以及与所述基体结合的表面多孔的氧化膜组成；

所述基体为钛；所述氧化膜为含有硅元素和钙元素的锐钛矿型二氧化钛；

所述硅元素在所述氧化膜中的质量百分含量为2.2%；所述钙元素在所述氧化膜中的质量百分含量为1.5%。

2.根据权利要求1所述的纯钛微弧氧化涂层，其特征在于：所述孔的直径为2μm。

3.制备权利要求1或2所述纯钛微弧氧化涂层的方法，包括如下步骤：将钛置于电解液中，以所述钛为阳极，以不锈钢为阴极，在电压为200V、频率为600Hz、占空比为8%的条件下，氧化5min，得到所述纯钛微弧氧化涂层；

所述电解液的溶质为硅酸钠、氢氧化钠、乙酸钙、乙二胺四乙酸二钠，溶剂为水；所述硅酸钠、所述氢氧化钠、所述乙酸钙、所述乙二胺四乙酸二钠和所述水的配比为14.2g：20g：8.8g：15g：9L；所述电解液的pH为.2。

4.权利要求1或2所述纯钛微弧氧化涂层在作为动物体硬组织替换材料或植入体中的应用。

5.权利要求1或2所述纯钛微弧氧化涂层在作为细胞培养基底材料中的应用。

6.权利要求1或2所述纯钛微弧氧化涂层在制备促进细胞增殖的产品中的应用。