[发明专利]阵列基板及其制造方法和液晶面板有效

专利信息
申请号: 201310097318.1 申请日: 2013-03-25
公开(公告)号: CN103217843A 公开(公告)日: 2013-07-24
发明(设计)人: 李凡 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 罗建民;邓伯英
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制造 方法 液晶面板
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,该阵列基板分为显示区域和环绕所述显示区域的边框区域,所述显示区域内包括多条数据线、多条扫描线和多条扫描连接线,所述多条数据线和所述多条扫描线相交,将所述显示区域划分为多个像素区域,其特征在于,所述多条扫描线和所述多条扫描连接线在所述显示区域一一对应地电连接。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述扫描连接线包括竖直部和水平部,所述水平部与所述扫描线电连接,所述竖直部与所述数据线平行设置。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述竖直部的至少一部分与所述数据线在垂直基板的方向上重叠。

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板具有顶栅结构,所述阵列基板还包括搭桥连接线,所述扫描线通过所述搭桥连接线与所述扫描连接线电连接。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述搭桥连接线与所述数据线位于同一层,所述扫描连接线与所述扫描线位于同一层,所述搭桥连接线和所述扫描线通过第一过孔电连接,所述搭桥连接线和所述扫描连接线通过第二过孔与所述扫描连接线电连接。

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,所述搭桥连接线的长度方向与所述扫描线的长度方向一致,每条所述搭桥连接线通过至少两个所述第二过孔与相对应的所述扫描线电连接。

7.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板的绝缘层上设置有保护层,所述保护层上设置有凹槽,所述凹槽位于所述阵列基板的有源层的上方,所述扫描线的一部分嵌入所述凹槽中。

8.根据权利要求1至3中任意一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板具有底栅结构,所述扫描连接线与所述阵列基板的像素电极位于同一层,所述扫描连接线和所述扫描线通过第三过孔电连接。

9.一种液晶面板,其特征在于,包括权利要求1至8中任意一项所述的阵列基板。

10.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括以下步骤:

步骤100、提供基板,所述基板包括显示区域和边框区域;

步骤200、在所述基板上形成多条扫描连接线、多条数据线以及多条扫描线,所述多条扫描线和所述多条扫描连接线在所述显示区域一一对应地电连接。

11.根据权利要求10所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,所述步骤200包括以下步骤:

步骤201、在所述基板上形成有源层图形;

步骤202、在完成步骤201的基板上形成所述数据线和搭桥连接线;

步骤203、在完成步骤202的基板上形成绝缘层,所述绝缘层覆盖所述基板;

步骤204、在所述绝缘层上形成像素电极;

步骤205、在完成步骤204的基板上形成保护层,该保护层覆盖所述基板;

步骤206、在完成步骤205的基板上加工第一过孔和第二过孔,所述第一过孔和所述第二过孔均穿过所述绝缘层和所述保护层到达所述搭桥连接线;

步骤207、在所述保护层上形成所述扫描线和所述扫描连接线,所述扫描线和所述扫描连接线分别通过所述第一过孔和所述第二过孔与所述搭桥连接线电连接。

12.根据权利要求11所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,所述步骤206还包括在所述保护层上开设凹槽。

13.根据权利要求10所述的阵列基板的制造方法,其特征在于,所述步骤200包括以下步骤:

步骤210、在所述基板上形成所述扫描线;

步骤220、在完成步骤210的基板上形成绝缘层,所述绝缘层覆盖所述基板;

步骤230、在所述绝缘层上形成有源层图形;

步骤240、在所述绝缘层上形成所述数据线;

步骤250、在完成步骤240的基板上形成保护层;

步骤260、在完成步骤250的基板上加工第三过孔,所述第三过孔穿过所述保护层和所述绝缘层到达所述扫描线;

步骤270、在完成步骤260的基板上形成像素电极和扫描连接线,所述扫描连接线通过所述第三过孔与所述扫描线电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310097318.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top