[发明专利]一种用四元素合金靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法

权利要求书

1.一种用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，该方法所用的四元素合金圆形靶材为Cu₂ZnSnS₄，该方法包括如下步骤：

（1）将沉积有钼层的玻璃基底板加热至300～400℃，调节溅射功率至30～200W，以圆形靶材Cu₂ZnSnS₄作为溅射靶材在基底上溅射得到第一层薄膜，溅射时间为15～60min，所述第一层薄膜表面呈贫铜富锌状态；

（2）调节玻璃基底板的温度至400～600℃，调节溅射功率至80～200W，以圆形靶材Cu₂ZnSnS₄作为溅射靶材在第一层薄膜溅射得到第二层薄膜，溅射时间为30min～2h，所述第二层薄膜表面呈富铜状态；

（3）调节玻璃基底板的温度为400～600℃，调节溅射功率至30～200W，以圆形靶材Cu₂ZnSnS₄作为溅射靶材在第二层薄膜溅射得到第三层薄膜，溅射时间为20～60min，所述第三层薄膜表面呈贫铜状态，即得铜锌锡硫薄膜。

2.根据权利要求1所述用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，所述靶材Cu₂ZnSnS₄的原子数比为2:（0.5-1.5）:（0.5-1.5）:4。

3.根据权利要求1所述用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，所述靶材Cu₂ZnSnS₄的形状为圆盘形。

4.根据权利要求1所述用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，所述四元素合金圆形靶材Cu₂ZnSnS₄的直径为25、50、75、100、或125毫米，厚度为6毫米或3毫米，所述四元素合金圆形靶材Cu₂ZnSnS₄黏合在厚度为2-4毫米与靶材直径相同的铜基板上。

5.根据权利要求1所述用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，所述玻璃基底板的厚度为2-6mm。

6.根据权利要求1所述用四元素合金圆形靶材制备铜锌锡硫薄膜的方法，其特征在于，所述钼层的厚度为200～1500nm。