[发明专利]具有至少一个操纵器的投射曝光设备及操作其的方法

权利要求书

1.一种用于微光刻的投射曝光设备(10)，包括：

-投射镜(22)，具有多个光学元件(E1-E4)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基底(24)上，

-至少一个操纵器(M1-M4)，其被配置为通过沿着至少一个行程(45)改变所述光学元件的状态变量而改变所述投射镜内的光学元件(E1-E4)中的至少一个的光学效果，作为操作器致动的一部分，

-算法产生器(42)，其被配置为产生行程产生优化算法(52)，所述行程产生优化算法基于具有至多1000个基函数的数学模型，其具有一个或多个优值函数，基于至少一个预定成像参数(30、46)且适配于所述至少一个预定成像参数(30、46)，所述行程产生优化算法(52)的产生基于所述至少一个预定成像参数(30、46)，其中，所述至少一个成像参数(30、46)包括关于要在后续曝光过程期间成像的掩模结构的结构信息(46)和/或关于要在所述后续曝光过程期间辐射到所述掩模结构上的曝光辐射(14)的角度分布的结构信息(30)，以及

-行程建立装置(44)，其被配置为通过所述行程产生优化算法为所述操纵器致动建立所述至少一个行程(45)。

2.如权利要求1所述的投射曝光设备，

还包括存储装置(56)，用于存储广义地限定所述投射镜(22)的成像质量的像差参数(64)的集合，并且其中所述优化算法被配置为设置所述至少一个行程(45)，使得在所述操纵器(M1-M4)的相应致动的情况下优化所述像差参数(64)的子集。

3.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

其中所述行程产生优化算法(52)被配置为基于表征所述投射镜(22)的成像质量的至少一个像差参数(64)为所述操纵器致动建立所述行程(45)。

4.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

其中所述算法产生器(42)具有数据库(48)，所述数据库(48)具有多个不同的存储的算法(50)。

5.如权利要求4所述的投射曝光设备，

其中所述算法产生器(42)被配置为基于所述预定成像参数选择所存储的算法(50)中的一个作为行程产生优化算法(52)。

6.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

其中所述算法产生器(42)被配置为将所述算法产生器(42)中存储的所存储的算法(50)适配于所述预定成像参数(30、46)。

7.如权利要求6所述的投射曝光设备，

其中所述算法产生器(42)被配置为通过执行优化方法而实现所存储的算法(50)适配于所述预定成像参数(30、46)。

8.如权利要求7所述的投射曝光设备，

其中用于适配所存储的算法(50)的所述优化方法基于优值函数，其考虑所述投射镜(22)的成像质量由于所述曝光过程期间镜加热所导致的变化对至少一个光刻误差的影响。

9.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

其中所述行程建立装置(44)被配置为在曝光暂停时激活由所述算法产生器(42)新产生的行程产生优化算法(52)。

10.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

还包括传感器(60)，用于测量外部物理变量，并且所述行程建立装置(44)被配置为在建立所述行程(45)时考虑所述外部物理变量。

11.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

还包括模拟装置(58)，其被配置为模拟所述光学元件(E1-E4)的光学特性的改变，该改变由于所述光学元件(E1-E4)的加热而产生，并且其中所述优化算法(52)被配置为基于所述光学特性的模拟的加热产生的改变计算所述至少一个行程(45)。

12.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

其中所述行程建立装置(44)被配置为在小于500ms中建立所述至少一个行程(45)。

13.如权利要求1或2所述的投射曝光设备，

还被配置为在多个曝光步骤中连续地将所述掩模结构分别成像到所述基底(24)的不同区域上，并且所述行程建立装置(44)被配置为在每个曝光步骤后建立所述至少一个行程(45)的更新版本。