[发明专利]双调显影用光掩模

权利要求书

1.一种双调显影用光掩模，其包括：

开口图案区，包括多个透光图案与多个不透光图案，且由该些透光图案与该些不透光图案于一双调显影用光致抗蚀剂中定义出多个开口图案；以及

不完全透光图案，围绕该开口图案区。

2.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中该些透光图案是以二维阵列的方式排列，且该些不透光图案是以网状排列并且包围各该透光图案。

3.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中该些不透光图案是以二维阵列的方式排列，且该些透光图案是以网状排列并且包围各该不透光图案。

4.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，还包括一护环图案，至少围绕部分的该不完全透光图案。

5.如权利要求4所述的双调显影用光掩模，其中该护环图案为透光或不透光。

6.如权利要求2所述的双调显影用光掩模，该双调显影用光致抗蚀剂的该些开口图案的间距为该双调显影用光掩模的该些透光图案的间距的50%至75%。

7.如权利要求3所述的双调显影用光掩模，该双调显影用光致抗蚀剂的该些开口图案的间距为该双调显影用光掩模的该些不透光图案的间距的50%至75%。

8.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中该些透光图案与该些不透光图案是以一维阵列的方式交错排列并且连续无间隔。

9.如权利要求8所述的双调显影用光掩模，其中各该透光图案的宽度与各该不透光图案的宽度的比为1：1至7：1。

10.如权利要求8所述的双调显影用光掩模，其中各该透光图案的宽度与各该不透光图案的宽度的比为1：1至1：7。

11.如权利要求9所述的双调显影用光掩模，该双调显影用光致抗蚀剂的该些开口图案的间距为该双调显影用光掩模的该些不透光图案的间距的50%至75%。

12.如权利要求10所述的双调显影用光掩模，该双调显影用光致抗蚀剂的该些开口图案的间距为该双调显影用光掩模的该些透光图案的间距的50%至75%。

13.如权利要求8所述的双调显影用光掩模，还包括一隔离区开口图案，位于一隔离区中。

14.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中该不完全透光图案包括光栅或不完全透光材料。

15.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中该些开口图案包括接触孔图案。

16.如权利要求1所述的双调显影用光掩模，其中当该些透光图案与该些不透光图案以至少一列的方式排列时，位于同一列上的该些透光图案与该些不透光图案为交错排列且间隔一定距离，相邻的各该透光图案与各该不透光图案之间包含该不完全透光图案。

17.如权利要求16所述的双调显影用光掩模，其中位于不同列上的该些透光图案与该些不透光图案为交错排列或相互对齐。

18.如权利要求17所述的双调显影用光掩模，当不同列上的该些透光图案与该些不透光图案为相互对齐时，位于不同列上的该些透光图案相互对齐、位于不同列上的该些不透光图案相互对齐、或位于一列上的该些透光图案与位于另一列上的该些不透光图案相互对齐。