[发明专利]一种匀胶铬版制造工艺

权利要求书

1.一种匀胶铬版制造工艺，包括以下步骤：

镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；

切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；

清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；

涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶。

2.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤包括：

无尘布擦洗，将切割后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3%~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液，擦洗表面10分钟；

倒角磨边处理，将擦洗后的小尺寸的铬膜基版的边角打磨钝化、边缘打磨平直；

浸泡，将倒角磨边处理之后的小尺寸的铬膜基版放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液中，浸泡10分钟；

超声波清洗；

清洗机清洗，在清洗机中放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液对小尺寸的铬膜基版进行清洗。

3.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤还包括：

脱模，在清洗机清洗之后，将小尺寸的铬膜基版置于浓度小于1%的NaOH溶液中10分钟进行脱膜；

再次清洗机清洗，在脱模之后，将小尺寸的铬膜基版再次置于清洗机中，放入浓度为3~5%、温度为35~40℃的碱性清洗溶液对小尺寸的铬膜基版进行清洗。

4.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述清洗步骤还包括：在进行无尘布擦洗之前，用无尘气枪吹静小尺寸的铬膜基版表面。

5.根据权利要求2所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：在无尘布擦洗后，倒角磨边之前，还包括用流动DI水彻底冲洗不小于10分钟，以及吹干或烘干留存在小尺寸的铬膜基版表面的DI水。

6.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述涂胶为涂胶机自动滴胶，涂胶机的转速为1200~1500转/分。

7.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：所述光刻胶通过天那水进行稀释，光刻胶与天那水的质量比值为1.78±5%。

8.根据权利要求1所述的匀胶铬版制造工艺，其特征在于：在所述镀膜步骤中，通过蒸镀、溅镀在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层。