[发明专利]离子注入装置及其控制方法

权利要求书

1.一种混合式离子注入装置，其具有如下结构：其中使用从离子源引出的离子束并通过射束扫描仪在横向上进行往复扫描并且使扫描离子束平行化，其中通过调节所述射束扫描仪的扫描速度来控制平行化的离子束的横向离子束密度分布的均匀性并确保所述均匀性，并且其中使晶片沿与所述横向垂直的纵向以机械扫描速度机械地移动，并且通过实时射束测量反馈来控制所述机械扫描速度，从而确保所述晶片中的纵向离子注入分布的均匀性，

其中通过多个固定式射束测量器以及可移动式或固定式射束测量装置来测量所述离子束的纵向剖面、横向剖面及积分电流值，并且

所述混合式离子注入装置包括控制装置，所述控制装置在离子注入前的射束电流调节阶段，根据所述固定式射束测量器以及所述可移动式或固定式射束测量装置的测量值，同时执行射束电流到所述射束电流的预设值的调节和确保所述横向离子束密度分布的均匀性所必需的横向射束尺寸的调节。

2.根据权利要求1所述的混合式离子注入装置，

其中，由所述控制装置进行的、射束电流到所述射束电流的预设值的调节和所述横向射束尺寸的调节的同时调节是以所述射束电流到所述射束电流的预设值的调节为优先的同时调节。

3.根据权利要求1所述的混合式离子注入装置，

其中，由所述控制装置进行的、射束电流到所述射束电流的预设值的调节和所述横向射束尺寸的调节的同时调节是以所述横向射束尺寸的调节为优先的同时调节。

4.一种混合式离子注入装置，其具有如下结构：其中使用从离子源引出的离子束并通过射束扫描仪在横向上进行往复扫描并且使扫描离子束平行化，其中通过调节所述射束扫描仪的扫描速度来控制平行化的离子束的横向离子束密度分布的均匀性并确保所述均匀性，并且其中使晶片沿与射束扫描方向垂直的纵向以机械扫描速度移动，并且通过实时射束测量反馈来控制所述机械扫描速度，从而确保所述晶片中的纵向离子注入分布的均匀性，

其中，通过多个固定式射束测量器以及可移动式或固定式射束测量装置来测量所述离子束的纵向剖面、横向剖面及积分电流值，并且

所述混合式离子注入装置包括控制装置，所述控制装置在离子注入前的射束电流调节阶段，根据所述固定式射束测量器以及所述可移动式或固定式射束测量装置的测量值，同时执行射束电流到所述射束电流的预设值的调节和纵向射束剖面的调节。

5.根据权利要求4所述的混合式离子注入装置，

其中，所述控制装置执行确保所述晶片中的所述纵向离子注入分布的均匀性所必需的纵向射束尺寸的调节，来作为所述纵向射束剖面的调节。

6.根据权利要求5所述的混合式离子注入装置，

其中，所述控制装置在所述离子注入前的所述射束电流调节阶段，根据所述射束扫描仪的扫描频率并且基于所述固定式射束测量器以及所述可移动式或固定式射束测量装置的所述测量值，同时执行所述射束电流到所述射束电流的预设值的调节和确保所述纵向离子注入分布的均匀性所必需的所述纵向射束尺寸的调节。

7.根据权利要求5所述的混合式离子注入装置，

其中，所述控制装置在所述离子注入前的所述射束电流调节阶段，根据所述机械扫描速度并且基于所述固定式射束测量器以及所述可移动式或固定式射束测量装置的所述测量值，同时执行所述射束电流到所述射束电流的预设值的调节和确保所述纵向离子注入分布的均匀性所必需的所述纵向射束尺寸的调节。

8.根据权利要求5所述的混合式离子注入装置，

其中，所述控制装置在所述离子注入前的所述射束电流调节阶段，根据所述射束扫描仪的扫描频率和所述机械扫描速度并且基于所述固定式射束测量器以及所述可移动式或固定式射束测量装置的所述测量值，同时执行所述射束电流到所述射束电流的预设值的调节和确保所述纵向离子注入分布的均匀性所必需的所述纵向射束尺寸的调节。