[发明专利]一种抑制半波孔的倍频分束薄膜有效
申请号: | 201310108420.7 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN103235355A | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 鲍刚华;程鑫彬;宋智;焦宏飞;王占山 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;B32B33/00 |
代理公司: | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抑制 半波孔 倍频 薄膜 | ||
1.一种抑制半波孔的倍频分束镜薄膜,其特征在于薄膜的基本周期结构为:aL/AR1/bH/AR2/cL,其中:AR1为L/H薄膜界面的导纳匹配层,AR2 为H/L薄膜界面的导纳匹配层;H、L分别代表高低折射率材料在基频波长的四分之一光学厚度,a、b、c为四分之一波长光学厚度的倍数;基本周期的总厚度为基频的半波光学厚度;L/H薄膜界面的导纳匹配层和H/L薄膜界面的导纳匹配层制得方法相同,AR1的制备方法为:将与AR1相邻的L膜层界面的折射率标为nL,H膜层界面的折射率标为nH;以折射率为nL的介质为入射介质,折射率为nH的介质为出射介质,利用矢量法,得到AR1,使得光从入射介质穿过AR1和出射介质后,能量不损失,即透射率为100%。
2.根据权利要求1所述的抑制半波孔的倍频分束镜薄膜,其特征在于所述薄膜的基本周期结构的总厚度为基频波长的半波长光学厚度。
3.根据权利要求1所述的抑制半波孔的倍频分束镜薄膜,其特征在于对基本周期结构进行优化计算时,只优化基本周期结构两侧临近空气和基板的膜层物理厚度;进行优化计算时认为膜层的折射率不具有非均质性。
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