[发明专利]触摸屏用玻璃盖板及其制备方法

权利要求书

1.一种触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，该玻璃盖板采用超薄玻璃先经过化学钢化再镀一层类金刚石薄膜而制成。

2.根据权利要求1所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述超薄玻璃的厚度为不大于1mm。

3.根据权利要求2所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述超薄玻璃的厚度为0.7mm。

4.根据权利要求1所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述类金刚石薄膜的厚度为4～20nm。

5.根据权利要求1所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板的可见光透光率在84%以上。

6.根据权利要求1所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板的化学钢化后强度≥860MPa，应力值≥487MPa。

7.根据权利要求1所述的触摸屏用玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板的表面的摩擦系数为＜0.25。

8.一种用于制备权利要求1-7任一权项所述触摸屏用玻璃盖板的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

第一步：玻璃冷加工

使用玻璃自动切割机将0.28～1mm厚的钠钙玻璃切割成一定尺寸，切割好的玻璃使用自动磨边机进行磨边、制槽，然后使用超声波清洗机进行清洗，先用异丙醇溶液，再用去离子水分别清洗；

第二步：化学钢化

在溶液池中配制熔盐，配方为工业纯KNO₃+0.5wt.%分析纯Al₂O₃，将清洗后的玻璃放入所述溶液池中，在420～470℃保温0.5～12小时；

第三步：钢化后处理

将第二步中钢化后的玻璃冷却至室温，浸入去离子水中浸泡，浸泡后放入IPA溶液中超声波清洗，再放入去离子水中超声波清洗；

第四步：镀膜前处理

将第三步中清洗好的玻璃放入镀膜腔室中，腔室本底抽真空，通入高纯氩气或氧气，使用射频电源起辉，生成等离子体，进行等离子清洗，将清洗后的玻璃在真空中静置，待玻璃表面冷却；

第五步：类金刚石镀膜

采用平板式电容耦合型等离子体增强化学气相沉积装置为镀膜装置，等离子体清洗后将腔室重新抽至本底真空，此后通入高纯甲烷或乙炔，使用自动控压器平衡腔室内的真空，开启射频电源产生等离子体以在玻璃表面镀膜；镀膜后待玻璃冷却后取出，即完成触摸屏用玻璃盖板的制备。

9.根据权利要求8所述的触摸屏用玻璃盖板的方法，其特征在于，所述第三步的钢化后处理步骤，浸入去离子水中浸泡的时间为12小时以上，IPA溶液中超声波清洗时间为5～10分钟，去离子水中超声波清洗时间为5～10分钟。

10.根据权利要求8所述的触摸屏用玻璃盖板的方法，其特征在于，所述第四步的镀膜前处理步骤中腔室本底真空抽至（1～5）×10^-4Pa，通入高纯氩气或氧气的流量为30～100sccm，用于起辉生成等离子体的射频电源的功率为150～300W，进行等离子清洗的时间为3～6分钟，清洗后的玻璃在真空中静置的时间为5～10分钟。

11.根据权利要求8所述的触摸屏用玻璃盖板的方法，其特征在于，所述第五步的类金刚石镀膜中所通入的高纯甲烷或乙炔的流量为30～100sccm，使用自动控压器将腔室内的真空平衡在0.5～3Pa，用于产生等离子体的射频电源的功率为150～300W，沉积时间为35～180sec。