[发明专利]透镜单元和成像装置

说明书

技术领域

本技术涉及透镜单元和成像装置，更具体地，涉及一种用于改善沿它们的光轴彼此相邻配设的透镜的定位的准确度的技术，该改善通过在所述相邻透镜之中的一个透镜的凸缘部上形成定位突部，在另一个透镜的凸缘部上形成定位凹部，并且将所述定位突部接合到所述定位凹部中而实现。

背景技术

使用固态成像器件例如电荷耦合器件（Charge Coupled Device，CCD）和互补金属氧化物半导体（Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS）的成像装置，例如带相机的移动电话和数字静态相机，是相关领域中已知的。

这类成像装置设置有包括多个透镜和各种光学透镜部件的透镜单元。所述成像装置非常需要具有小尺寸，并且其中安装的透镜单元也要求具有小尺寸和短的整体长度。

进一步地，在小尺寸的成像装置例如带相机的移动电话中，成像器件中的像素的数量在近年来已增加越来越多，并且已成为普遍的是，这类包括成像器件的成像装置具有相似于数字静态相机的大量像素。因此，安装在所述成像装置中的所有透镜要求具有与所述成像器件的大量像素对应的较高光学性能。为满足这类要求，需要以高度的准确度组装多个透镜，并且使这些透镜的光轴以高度的准确度彼此重合。

在相关领域中，为以高度的准确度组装透镜，已试验了定位透镜的各种方法。

例如，已知一种定位透镜的方法，其通过将透镜压迫到透镜保持器中而使透镜保持器的内周表面与各透镜的外周表面之间进行接触。

然而，在此方法中，所述透镜通过与所述透镜保持器的内周表面进行接触而定位，使得各透镜的光轴的位置依赖于所述透镜保持器的加工的准确度。因此，除所述透镜之外的部件之间的变量（variation）（公差）对所述透镜的定位准确度有影响。

为应对此问题，已提出一种定位透镜的方法，该方法通过使所述透镜之中的一者的凸缘部上形成的环形突部的内周表面与另一透镜的凸缘部上形成的环形突部的外周表面之间进行接触而实现（例如见日本专利特许公开号2002-196211，下文称为专利文献1）。

然而，专利文献1中所描述的方法有下述可能情况：当图24所示透镜a和透镜b中的至少一个具有加工变量（公差）时，在透镜a的突部c与透镜b的突部d之间可能产生间隙。

此间隙引起透镜a的光轴与透镜b的光轴之间的偏离，使得透镜a与透镜b之间无法确保良好的定位准确度。

进一步地，当力未均匀地施加到透镜a或透镜b，而是如图25所示将大的力F施加到透镜a或透镜b的外周部时，则根据透镜a和透镜b的组装的准确度，有可能透镜a或透镜b会沿箭头R所示方向围绕作为支点的、突部c与突部d之间的接触点e而倾斜。因此，透镜a或透镜b的光轴倾斜，并且因此无法在透镜a与透镜b之间确保良好的定位准确度。

发明内容

因此，期望改善成像装置和透镜单元中的透镜之间的定位准确度。

在根据本技术的实施例的成像装置和透镜单元中，相邻透镜的定位准确度可得到改善。

根据图示实施例，一种透镜单元包括至少一个透镜，所述透镜具有位于该透镜的凸缘部中的接合部，所述接合部具有垂直于或大致垂直于所述透镜的光轴的宽度，并且所述接合部的宽度随所述接合部沿平行于或大致平行于所述透镜的光轴的方向横越而减小。

本技术的其它特征和优点将由联系附图的以下描述而变得明显。

附图说明

图1是根据本技术的实施例的成像装置的透视图；

图2是包括在图1所示的成像装置中的、具有两个透镜的透镜单元的放大截面图；

图3是图2所示两个透镜的放大分解透视图；

图4是图2所示两个透镜的另一放大分解透视图，示出沿与图3不同方向看到的状况；

图5是所述两个透镜之中的一个的放大截面图；

图6是另一个透镜的放大截面图；

图7是放大截面图，示出模制图5所示透镜的状况；

图8是放大截面图，示出模制图6所示透镜的状况；

图9是放大截面图，示出具有三角形截面的定位接合部；

图10是放大截面图，示出具有U形截面的定位接合部；

图11是放大截面图，示出具有形成自由形式（free-form）表面的截面的定位接合部；

图12是放大截面图，示出具有不同形状的定位突部和定位凹部的组合；

图13是放大透视图，示出一种透镜，该透镜具有沿透镜的周向方向间隔地形成的多个定位突部；