[发明专利]多次扫描电子束刻蚀制作高频光栅的方法

权利要求书

1.一种多次扫描电子束刻蚀制作高频光栅的方法，依次包括如下步骤：

(1)打磨、抛光

将基片表面打磨和/或抛光到其表面粗糙度Ra达到0.1微米；

(2)清洗

将基片依次用丙酮和乙醇超声波清洗中，以充分去除基片表面的污染物；

(3)涂胶

在基片表面旋涂电子束感光胶，并将涂好胶的基片烘干；

(4)曝光

将基片放入扫描电镜的载物台上，选定电镜工作参数，包括加速电压、探针电流、工作距离、扫描次数、光阑号和放大倍数，对基片表面进行电子束扫描。

(5)显影、定影和漂洗

使用显影、定影药液对曝光后的基片完成显影、定影，之后用去离子水对所制光栅进行漂洗。

(6)镀金

经显影和定影后，在基片上镀一层金属膜；

其中，上述第4步中的电镜工作参数为：

加速电压20-22KV，探针电流30-50A，工作距离8-7mm，扫描次数16-64帧，光阑号3号，放大倍数1600-2700。