[发明专利]利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管测量DNA杂化方法有效
申请号: | 201310113326.0 | 申请日: | 2013-04-02 |
公开(公告)号: | CN104101626A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 张跃;章潇慧;廖庆亮;刘硕;王钦玉;张铮 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | G01N27/26 | 分类号: | G01N27/26 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 石墨 修饰 电子 迁移率 晶体管 测量 dna 方法 | ||
1. 利用石墨烯修饰高电子迁移率晶体管测量DNA杂化方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
首先,HEMT的构建:在温度580℃下,分子束外延沉积GaAs层1μm,Al0.26 Ga0.7As层3nm,Si掺杂AlGaAs层22nm,及Si掺杂GaAs帽层5nm;沉积Ni/AuGe/Ni/Au作为HEMT的源极和漏极,其中,Ni: 50 nm, AuGe: 204 nm, Ni: 10 nm, Au: 50 nm;利用等离子体增强化学气相沉积法将SiO2绝缘层沉积到器件表面;用石蜡对HEMT进行封装,仅保持栅极暴露在外;
其次,探针DNA固定到HEMT栅极:将探针DNA溶液与浓度为0.1-10 mg/mL石墨烯乙醇分散液,进行混合,其混合比例为DNA溶液体积:石墨烯分散液体积为1:6-1:3,在温度为18-22℃下将混合液孵化30-50分钟,随后,将适量孵化液滴在步骤1制备得到的HEMT栅极上,在温度为0-4℃下进行孵化和干燥、备用;其中,探针DNA溶液由磷酸盐缓冲液配置,浓度在0.01-10μM;
最后,石墨烯修饰HEMT对DNA杂化进行检测:将不同浓度的目标DNA滴加到已经固定了探针DNA的HEMT栅极,测量HEMT源极和漏极之间的电流变化,获得DNA杂化电流。
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