[发明专利]基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列有效
| 申请号： | 201310113813.7 | 申请日： | 2013-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN103792754A | 公开（公告）日： | 2014-05-14 |
| 发明（设计）人： | 李青;严静;胡凯;李东平;曾倩倩 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | G02F1/29 | 分类号： | G02F1/29;G02F1/1333;G02F1/137 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 张惠忠 |
| 地址： | 210096*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 紫外光 扫描 电导 材料 形成 透镜 像素 液晶 阵列 | ||
1.一种基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于自上而下依次布置后基底玻璃（5）、公共电极层（6）、后取向层（7）、前取向层（4）、光电导材料层（3）、透明导电薄膜构成的像素电极层（2）、前基底玻璃（1），后取向层（7）、前取向层（4）之间布置衬垫层（8），衬垫层（8）内灌入向列相液晶（9）。
2. 一种基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于自上而下依次布置后基底玻璃（5）、公共电极层（6）、光电导材料层（3）、透明导电薄膜构成的像素电极层（2）、前基底玻璃（1），公共电极层（6）、光电导材料层（3）布置衬垫层（8），衬垫层（8）内灌入蓝相液晶（10）。
3.根据权利要求1所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于上述前取向层（4）、后取向层（7）的厚度为100nm-5um。
4.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于上述前基底玻璃（1）、后基底玻璃（5）的厚度为0.4-1.1mm。
5.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于上述衬垫层（8）的厚度为2um-500um。
6.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于通过控制紫外光照射区域、强度及时间，得到空间周期性紫外光光强分布，从而控制光电导材料层（3）的电阻阻值空间分布，从而形成透镜像素。
7.根据权利要求6所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在通过控制紫外光光强空间分布，控制光电导材料层（3）上的像素图案（11）为条状、矩形、正多边形或者圆孔，宽度或直径为5um-10mm。
8.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于控制紫外光照射区域、强度及时间,使像素图案（11）调节光电导材料阻值从边缘向中心递增或者递减，从而实现凸透镜或者凹透镜控制。
9.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于上述光电导材料层（3）通过旋涂、印刷方法得到。
10.根据权利要求1或2所述的基于紫外光扫描光电导材料形成透镜像素的液晶透镜阵列，其特征在于上述光电导材料层（3）的厚度为10nm-10mm，经过紫外光照射后阻值为10Ω-100MΩ。
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