[发明专利]一种基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法

权利要求书

1.一种基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，所述的基体是指二氧化锆材料制品，或者是表面包覆二氧化锆涂层的制品，其特征是：采用还原氮化法在所述的基体表面原位反应生成氮化锆薄膜，具体为：将清洗后的基体放入具有碳源的高温炉中，将高温炉抽真空后充入高纯氮气，接着升温至1200℃～1800℃后保温一定时间，最后冷却至室温，基体表面即得到一层致密的氮化锆涂层。

2.根据权利要求1所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的基体包括二氧化锆义齿、二氧化锆手表表链、二氧化锆镜框、二氧化锆陶瓷。

3.根据权利要求1所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的碳源是放置在高温炉腔体内的碳材料体、涂覆在炉体内壁的碳涂层，或者是构成炉体本身的碳材料。

4.根据权利要求1所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的高温炉包括真空高温热压炉，高温气氛炉，等离子烧结炉。

5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的高温炉腔体内的真空度保持在10^-1Pa以下。

6.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的高温炉的升温速率为5～100℃/min。

7.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的高温炉升温至一定温度后保温0.5～24小时。

8.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的高温炉的降温速率为5～100℃/min。

9.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：所述的基体表面首先进行打磨处理、抛光处理，然后清洗，置入高温炉中处理。

10.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的基体表面金黄色氮化锆涂层的制备方法，其特征是：将制得的氮化锆涂层进行打磨、清洗处理。