[发明专利]单芯片低噪声放大器有效

专利信息
申请号: 201310116048.4 申请日: 2013-04-03
公开(公告)号: CN103199802A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 管玉静;袁野;付汀 申请(专利权)人: 成都雷电微力科技有限公司
主分类号: H03F1/42 分类号: H03F1/42
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 王芸;熊晓果
地址: 610041 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 芯片 低噪声放大器
【说明书】:

技术领域

发明涉及集成电路设计、制造技术领域,特别涉及一种广泛用于W波段各类雷达组件及毫米波通信系统的单芯片低噪声放大器。

背景技术

低噪声放大器是卫星通信、雷达通信等领域中高灵敏度接收机的关键部件,通过低噪声放大器,从而提高接收机的灵敏度。

单片微波集成电路(MMIC)因其电路损耗小、噪声低、频带宽、动态范围大、功率大、附加效率高、抗电磁辐射能力强等特点,成为设计制造毫米波低噪声放大集成电路的最佳选择之一。采用MMIC工艺技术的W波段低噪声放大器在无线通信、雷达及毫米波成像等军民用途中有着广泛的应用。低噪声放大器设计中的一个重点和难点是电路的稳定性问题,因为在较低频段内有很高的增益及噪声,所以很容易引发低频振荡,使整个电路不能稳定工作。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的上述不足,提供一种利用MMIC工艺制造的工作在W波段的单芯片低噪声放大器。

为实现上述目的,本发明提供了以下技术方案:

单芯片低噪声放大器,其在单芯片上集成有输入匹配电路,输入匹配电路的输入端连接外部信号输入源,其输出端顺次级联四级晶体管放大器、输出匹配电路后向外输出,所述四级晶体管放大器包括第一级晶体管放大器、第二级晶体管放大器、第三级晶体管放大器、第四级晶体管放大器,各级晶体管放大器通过中间级匹配电路依次级联,各级晶体管放大器分别包括三极管、三级滤波电路,所述三极管的集电极和基极通过三级滤波电路与供电端连接,所述第一级晶体管放大器发射极到地串联有电感,其余各级晶体管放大器中的发射极直接接地。

上述单芯片低噪声放大器中,所述单芯片低噪声放大器采用MMIC工艺制造。由于MMIC的衬底材料的电子迁移率较高、禁带宽度宽、工作温度范围大、微波传输性能好,所以MMIC具有电路损耗小、噪声低、频带宽、动态范围大、附加效率高、抗电磁辐射能力强等特点。

上述单芯片低噪声放大器中,所述四级晶体管放大器包括的第一级晶体管放大器、第二级晶体管放大器、第三级晶体管放大器、第四级晶体管放大器均为小尺寸晶体管,兼具低功耗和低噪声的特点。

上述单芯片低噪声放大器中,所述四级晶体管放大器为四级pHEMT晶体管放大器。

上述单芯片低噪声放大器中,所述三级滤波电路为三级RC滤波电路。

本发明提供的单芯片低噪声放大器,在实际应用中与MMIC工艺完全兼容,单芯片中的四级晶体管放大器,级间有匹配电路,各级晶体管放大器的集电极和基极供电均采用三级RC滤波电路,分别针对各频率进行逐级滤波,再配以片外芯片电容,保证芯片的全频段稳定,从而可以有效抑制在W波段低噪声放大器中常见的低频振荡,提高了W波段低噪声放大器的稳定性和宽带性能。各级晶体管放大器均为小尺寸晶体管,兼具低功耗与低噪声的特点,第一级晶体管放大器发射极到地串联电感,保证了该芯片在获得良好输入驻波的条件下同时获得极低噪声,使各级放大电路噪声和增益同时达到良好匹配。

与现有技术相比,本发明的有益效果:本发明的单芯片低噪声放大器可广泛用于W 波段各类雷达组件及毫米波通信系统等领域,其工作频段宽,且全频段性能稳定,各级放大电路能同时达到最佳噪声和输入驻波的良好匹配。

附图说明

图1为本发明的电路连接框图。

图2为图1中四级晶体管放大器的电路连接框图。

图中标记:1-单芯片,2-输入匹配电路, 3-四级晶体管放大器,3.1-第一级晶体管放大器,3.2-第二级晶体管放大器,3.3-第三级晶体管放大器,3.4-第四级晶体管放大器,4-输出匹配电路,5-三极管,6-三级RC滤波电路,7-中间级匹配电路,8-电感。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的说明。

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都雷电微力科技有限公司,未经成都雷电微力科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310116048.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top