[发明专利]一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310117598.8 申请日: 2013-04-07
公开(公告)号: CN103236466A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 李季戎;史伟民;廖阳;钱隽;王国华;杨伟光;沈心蔚;沈介圣;何玲玲;沈忠文 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;C03C17/22
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 铜锌锡硫 太阳电池 窗口 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法,属太阳能电池薄膜器件制备工艺技术领域。

背景技术

氧化锌(ZnO)是一种II-VI族宽禁带氧化物半导体材料,其带宽约为3.37eV,呈现良好的n型半导体性能,具有很好的光电性质。ZnO具有制备成本低、生长温度低的特点,有利于降低设备成本,抑制固相外扩散,提高薄膜质量,也易于实现掺杂。同时,ZnO薄膜的原料丰富、无毒、对环境没有污染,是一种环保型材料,基于这些优良性能,ZnO可用作太阳能电池的窗口材料。

硫化锌(ZnS)也是宽带隙半导体材料,室温下禁带宽度为3.66eV,被认为是包覆ZnO纳米材料的优选材料;也是一种研究得最多和最为广泛的金属硫化物之一,因其具有热红外透明性、荧光和磷光等独特的光物理特性,引起了人们的极大兴趣。ZnO和ZnS是具有不同能级的两种半导体,可以制成二元的复合胶体体系,形成ZnS包覆ZnO的核壳式的包覆结构,再用有机材料进行表面修饰,而引起光学特性的变化。目前,对于ZnOZnS一维纳米体系,基本都是以ZnO纳米棒为核心,通过硫化ZnO纳米棒来生长ZnOZnS核壳纳米结构。

ZnOZnS纳米阵列核壳结构具有宽禁带、高透过率及良好的电学性能,适合作为CZTS的窗口层,能与CZTS形成pn结,制备出太阳能电池。

目前,ZnOZnS纳米阵列核壳结构的制备方法有化学气相沉积法(CVD),但是CVD反应温度较高,沉积速率较低,难以局部沉积。参与沉积反应的气源和反应后的余气都有一定的毒性。迄今为止还没有记载过用水热法制备作为CZTS太阳能电池窗口层的ZnOZnS纳米阵列核壳结构。

发明内容

针对现有技术存在的缺陷,本发明的目的是提供一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法,一种ZnS包覆的ZnO(简称为ZnOZnS)纳米阵列核壳结构的制备方法。

为达到上述目的,本发明采用如下技术方案:

一种铜锌锡硫太阳电池窗口层的制备方法,利用旋涂法制备ZnO纳米阵列晶种,利用水热法生长ZnO纳米阵列,利用水热法硫化生长ZnS壳层结构,具有如下工艺过程和步骤:

a)玻璃衬底的清洗:采用载玻片作为衬底,先将衬底用曲拉通水溶液、丙酮、无水乙醇、去离子水分别在超声条件下进行清洗;

b) ZnO纳米阵列晶种的制备:乙醇胺和醋酸锌溶于乙醇,浓度均为0.05mol/L,超声均匀;将载玻片衬底放入匀胶机中,用滴管将晶种溶液分别滴在衬底上,通过匀胶机进行旋涂,转速为1000 r/min;

c) ZnO纳米阵列的生长:采用水热法生长ZnO纳米阵列;生长溶液为0.05mol/L硝酸锌的水溶液和0.05mol/L六亚甲基四胺(HMT)的水溶液;将两种溶液各取8mL,充分混合后加入到水热反应釜中,将制好ZnO纳米阵列晶种的载玻片衬底也放入其中,并置于92.5℃的烘箱中;1~3小时后取出,用去离子水洗去表面附着的颗粒,最后用真空管式炉退火;退火在N2气氛中进行,温度为400℃,时间为30min;

d)ZnS壳层结构的生长:采用水热法硫化生长ZnS壳层结构;生长溶液为0.05~0.50mol/L硫代乙酰胺(TAA)的水溶液,取17ml生长溶液,加入到水热反应釜中,将制好的ZnO纳米阵列也放入其中;并置于90℃的烘箱中;硫化1~9小时后取出,用去离子水洗去表面附着的颗粒,最后放入烘箱,烘干得到ZnS包覆的ZnO纳米阵列核壳结构,即为铜锌锡硫太阳电池窗口层。

与现有技术相比,本发明具有如下的突出的实质性特点和显著的进步:

水热法制备ZnO纳米阵列,沉积速率稳定,通过精确地控制水热生长时间,膜厚易控制,且重复性好。利用水热法在ZnO纳米阵列膜上保持原先的柱状形状,制备一层壳层结构的ZnS,从而形成ZnOZnS纳米阵列核-壳层结构,改变了单纯的ZnO纳米结构。采用的水热法省去了气相法制备所需要的复杂设备,是一种简单方便、经济实用的方法。水热法制备的ZnOZnS纳米阵列核壳结构与衬底的附着强度较高,具有高透过率、良好的电学特性,能够作为CZTS太阳能电池的窗口层,与后续电池的制备工艺具有良好的衔接。本发明设备简单,易于操作,重复性好。

附图说明

图1为ZnOZnS纳米阵列核壳结构硫化6h的X射线衍射谱(XRD),TAA浓度为0.20mol/L。

图2为ZnOZnS纳米阵列核壳结构硫化6h的紫外可见光透过率图谱。

图3为ZnOZnS纳米阵列核壳结构硫化6h的扫描电镜(SEM)图像,TAA浓度为0.20mol/L。

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