[发明专利]一种多元络合法制备超细铜粉的方法无效

专利信息
申请号: 201310120865.7 申请日: 2013-04-09
公开(公告)号: CN103231071A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 朱晓云;曹梅;龙晋明 申请(专利权)人: 昆明理工大学
主分类号: B22F9/24 分类号: B22F9/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650093 云*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 多元 络合 法制 备超细铜粉 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种多元络合法制备超细铜粉的方法,特别涉及铜导体浆料用超细铜粉的制备方法,属于电子材料、功能材料和粉体材料科学领域。

背景技术

随着贵金属浆料成本的飙升和国产保护性气氛炉的研制成功,铜导体浆料代替银导体浆料已在压敏电阻、厚膜混合集成电路、陶瓷散热片等产品上应用。铜导体浆料性能主要由导电相超细铜粉决定,其中铜粉松装密度是一个重要指标。

目前用于制备铜导体浆料的超细铜粉的制备方法很多,包括物理法、化学法和物理-化学法,在公知技术中均未明确给出超细铜粉的松装密度;铜导体浆料的应用存在阻值偏高、可焊性差、附着力低等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种多元络合法制备超细铜粉的方法,通过复合络合剂控制铜粉的还原速度,进而控制铜粉的粒度和形貌,制备高密度铜粉,用于生产铜导体浆料,通过下列技术方案实现。

一种多元络合法制备超细铜粉的方法,经过下列各步骤:

(1)铜盐溶液的配制:以硫酸铜为溶质、离子水为溶剂,配制硫酸铜的质量浓度为0.5~30g/L的铜盐溶液;

(2)多元络合剂的配制:将两种或两种以上络合剂混合均匀,再向溶液中加入浓度是0.1~3g/L的NaOH,使多元络离子溶液的pH保持在7~13;所得多元络合剂的特征为:总络离子质量浓度为M,其中,主络合剂的络离子质量浓度为[A],其它辅助络合剂质量浓度为[B]、[C],各络合剂质量浓度符合下列等式:二元络合剂:M=[A]+[B]=1.5~5[Cu2+],[A]=1~5[Cu2+]、[B]=0.25~5 [Cu2+];三元络合剂:M=[A]+[B]+ [C]=1.5~5[Cu2+],[A]= 1 ~5 [Cu2+]、[B]=0.1~5[Cu2+]、[C]=0.1~5[Cu2+];

(3)多元铜络离子溶液的配制:将步骤(1)所得铜盐溶液与步骤(2)所得多元络合剂按体积比为1:0.5混合均匀,配制成多元铜络离子溶液;

(4)将步骤(3)所得多元铜络离子溶液,在水浴温度30~80℃下搅拌1~30分钟;再加入步骤(1)所得铜盐溶液体积的1/3的还原剂,然后搅拌5~60分钟;

(5)将步骤(4)的反应液进行液固分离,得到铜粉;再用离子水洗涤铜粉至水为中性无色;

(6)将步骤(5)的铜粉置于30~60℃下烘干2~6小时,即得到超细铜粉。

所述步骤(2)的络合剂是下列溶液中的两种或两种以上:酒石酸、二巯基丙醇、二巯基丙烷磺酸钠、硫脲、氟化氨、乙酰丙酮、柠檬酸、三乙醇胺、EDTA、乙二胺四丙酸。

所述步骤(4)的还原剂为浓度是3~60g/L的肼类、糖类、次磷酸盐或硼烷。

所述步骤(4)的还原剂的加入分2~3次加入,每次间隔2~5分钟。

所得超细铜粉的表面形貌为球形或类球形状,松装密度大于3.0g/cm3。用于制备铜导体浆料,具有阻值低、可焊性好、附着力强等特性。

本发明与公知技术相比具有下列优点和效果:本发明工艺过程简单,操作方便,设备投资小。采用两种或两种以上的络合剂,控制络合剂比例,得到不同浓度的两种或两种以上的铜络合离子,加入还原剂。根据不同铜络合离子与还原剂的还原能力不同,控制铜粉的反应速度和形貌。所得超细铜粉为球形或类球形状,松装密度大于3.0g/cm3。用于制备铜导体浆料,具有阻值低、可焊性好、附着力强等特性,降低了铜浆料成本。

本发明提供一种多元络合法制备超细铜粉的方法,采用两种或两种以上的络合剂,控制络合剂比例,得到不同浓度的两种或两种以上的铜络合离子,加入还原剂。根据不同铜络合离子与还原剂的还原能力不同,控制铜粉的反应速度和形貌。本发明工艺过程简单,操作方便,设备投资小,所得超细铜粉为球形或类球形状,松装密度大于3.0g/cm3。用于制备铜导体浆料,具有阻值低、可焊性好、附着力强等特性,降低了铜浆料成本。

具体实施方式

下面通过实施例对本发明做进一步说明。

实施例1

(1)铜盐溶液的配制:以硫酸铜为溶质、离子水为溶剂,配制硫酸铜的质量浓度为0.5g/L的铜盐溶液;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310120865.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top