[发明专利]一种高效异质结太阳能电池及其制备方法无效
申请号: | 201310123496.7 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN103219402A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 崔冬萌;贾锐;丁武昌;陈晨;乔秀梅;金智;刘新宇 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 异质结 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
1.一种高效异质结太阳能电池,其特征在于,包括:
衬底(6),该衬底(6)采用P型晶硅材料;
在衬底(6)背面设置的铝背场(7);
在衬底(6)正面依次生长的n型扩散层(5)、i型本征非晶硅薄膜(4)、n型非晶硅薄膜(3)以及TCO薄膜(2);以及
在TCO薄膜(2)上设置的电极(1)。
2.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述衬底(6)采用p型单晶硅衬底、p型多晶硅衬底或p型冶金硅衬底,厚度为50μm~300μm,电阻率为1Ω·cm~100Ω·cm,晶格方向为100。
3.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述在衬底(6)背面设置的铝背场(7)是通过丝网印刷铝浆料烧结而成,铝浆料印刷厚度为9μm~100μm。
4.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述n型扩散层(5)的厚度为5nm~50nm,扩散浓度为6.0×10-17~5.5×10-19kg/cm3。
5.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述i型本征非晶硅薄膜(4)的厚度为3nm~50nm。
6.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述n型非晶硅薄膜(3)的厚度为5nm~100nm。
7.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述TCO薄膜(2)采用ZnO或ITO薄膜材料,厚度为50nm~150nm,电阻率在0.9E-3~1.2E-5Ω·cm。
8.根据权利要求1所述的高效异质结太阳能电池,其特征在于,所述在TCO薄膜(2)上设置的电极(1)是通过丝网印刷纯银浆料烧结而成,银浆料厚度为5μm~80μm。
9.一种制备权利要求1至8中任一项所述高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,包括:
清洗P型晶体硅衬底;
利用铝浆料在P型晶体硅衬底背面丝网印刷铝背场;
利用烧结炉烧结在P型晶体硅衬底背面丝网印刷的铝背场;
利用扩散炉在P型晶体硅衬底正面轻扩n型扩散层;
利用PECVD在该n型扩散层上生长i型本征非晶硅薄膜;
利用PECVD在该i型本征非晶硅薄膜上生长n型非晶硅薄膜;
利用电子束蒸发在该n型非晶硅薄膜上蒸发TCO薄膜;以及
在该TCO薄膜上丝网印刷一层银浆电极。
10.根据权利要求9所述的制备高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,所述清洗P型晶体硅衬底的步骤是采用表面RCA清洗,具体包括:
依次利用去离子水、硝酸、去离子水、氢氟酸、去离子水清洗P型晶体硅衬底,清洗时间依次为2~3分钟、1小时、2~3分钟、30秒、2~3分钟,其中硝酸为浓硝酸,氢氟酸为稀释的氢氟酸。
11.根据权利要求10所述的制备高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,在全部清洗完成后,再使用体积比1∶1的浓硫酸和双氧水对P型晶体硅衬底进行氧化,在表面形成一层氧化层,保护硅片的表面。
12.根据权利要求9所述的制备高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,所述利用铝浆料在P型晶体硅衬底背面丝网印刷铝背场之后,还包括:
对背面丝网印刷铝背场的P型晶体硅衬底进行烘烤,烘烤温度250℃,时间5分钟。
13.根据权利要求9所述的制备高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,所述利用烧结炉烧结在P型晶体硅衬底背面丝网印刷的铝背场的步骤中,烧结温度为首先在600℃保持6秒,随即在880℃保持3秒。
14.根据权利要求9所述的制备高效异质结太阳能电池的方法,其特征在于,所述利用扩散炉在P型晶体硅衬底正面轻扩n型扩散层的步骤中,是将烧结后的P型晶体硅衬底置于扩散炉中,通入POCl3气体作为反应气并通入N2作为保护气氛进行轻扩散。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的