[发明专利]粒子线治疗系统有效
申请号: | 201310123504.8 | 申请日: | 2013-04-10 |
公开(公告)号: | CN103357124A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 远竹聪;梅泽真澄;今川知久 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;郭凤麟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 治疗 系统 | ||
1.一种粒子线治疗系统,其具备:加速器,其将离子束加速到所设定的能量;照射装置,其向照射对象照射加速后的上述离子束;射束输送系统,其将从上述加速器射出的上述离子束输送到上述照射装置,该粒子线治疗系统的特征在于,
具备:照射控制装置,其在上述加速器进行运转而使上述离子束的能量分级地增加、或分级地减少地进行变更的期间中,根据射出的上述离子束的能量、将上述能量分级地变更直到达到上述离子束的能量为止的次数,进行控制使设置在上述加速器或上述射束输送系统中的电磁铁的励磁电流值分级地增加、或分级地减少。
2.根据权利要求1所述的粒子线治疗系统,其特征在于,
上述照射控制装置根据与分级地变更上述能量的次数对应的补偿量比例、与上述离子束的能量对应的上述电磁铁的基准电磁铁励磁电流值以及基准补偿值,计算对上述基准电磁铁励磁电流值的补偿值,计算对上述电磁铁的励磁电流值。
3.根据权利要求2所述的粒子线治疗系统,其特征在于,
上述照射控制装置具有记录了上述基准电磁铁励磁电流值的第一数据表、记录了上述补偿量比例的第二数据表、记录了上述基准补偿值的第三数据表,从上述第一数据表取得基准电磁铁励磁电流值,根据上述第二数据表和上述第二数据表,计算对上述基准电磁铁励磁电流值的补偿值,根据上述基准电磁铁励磁电流值和上述补偿值,计算对上述电磁铁的励磁电流值。
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