[发明专利]各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片有效
| 申请号： | 201310125985.6 | 申请日： | 2013-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN103197367A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 齐红基;侯永强;朱美萍;易葵 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C03C17/245 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 各向异性 各向同性 混合 薄膜 反射 位相 延迟 | ||
【权利要求书】：
1.一种各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于是由基底上依次镀制的各向同性的高反射膜（4）和各向异性薄膜层（3）一体构成，所述的高反射膜（4）的结构为(HL)xH，其中H为高折射率层（1），L为低折射率膜层（2），x为高折射率层（1）和低折射率膜层（2）重复的次数，所述的高反射膜（4）的最外层为高折射率层（1），每一膜层的光学厚度为四分之一使用波长λ，所述的各向异性薄膜层（3）的光学厚度及该膜层制备时的倾斜沉积角度决定反射式位相延迟片的反射位相延迟量。
2.根据权利要求1所述的各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于所述的高反射膜（4）使用传统的物理气相沉积技术制备，所述的各向异性薄膜层（3）采用倾斜沉积技术制备，利用电子束蒸发方式将薄膜材料沉积在光学基片上，利用步进电机控制基片法线相对于蒸发源的倾斜角度，从而获得各向异性薄膜层（3），使用电子束蒸发方式镀制各向异性的氧化物材料时，氧气纯度大于99.999%，充入量为20-25sccm，材料沉积速率为0.4～0.6nm/s。
3.根据权利要求1所述的各向异性和各向同性混合薄膜反射式位相延迟片，其特征在于所述的基底为玻璃。
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