[发明专利]光刻机能量传感器的性能测量装置和测量方法有效

专利信息
申请号: 201310126184.1 申请日: 2013-04-12
公开(公告)号: CN103197511A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 谢承科;陈明;杨宝喜;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01J1/42
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 机能 传感器 性能 测量 装置 测量方法
【权利要求书】:

1.一种光刻机能量传感器的性能测量装置,特征在于其构成包括光源(1)、起偏器(2)、分束镜(3)、测量光衰减片(4)、转动控制器(8)、待测能量传感器(5)、参考光衰减片(6)、参考能量传感器(7)、多功能信号处理卡(9)和计算机(10),上述元部件的位置关系如下:

在所述的光源(1)输出光束方向依次是所述的起偏器(2)、分束镜(3)、测量光衰减片(4)、待测能量传感器(5),所述的分束镜(3)与所述的光束成45°夹角,在所述的分束镜(3)的反射光方向依次是所述的参考光衰减片(6)和参考能量传感器(7),所述的测量光衰减片(4)固定在所述的转动控制器(8)转动轴上,所述的多功能信号处理卡(9)的输入端分别与所述的待测能量传感器(5)的输出端和参考能量传感器(7)的输出端相连,所述的多功能信号处理卡(9)的第一输出端与所述的转动控制器(8)控制端相连,所述的多功能信号处理卡(9)的第二输出端与所述的计算机(10)的输入端相连。

2.根据权利要求1所述的光刻机能量传感器的性能测量装置,其特征在于所述的光源(1)采用脉冲激光器,其重复频率300Hz内可调,出射能量为5mJ。

3.根据权利要求1所述的光刻机能量传感器的性能测量装置,其特征在于所述的参考能量传感器(7)和待测能量传感器(5)采用相同的能量传感器。

4.利用权利要求1所述的光刻机能量传感器的性能测量装置对光刻机能量传感器的测量方法,特征在于包括重复性、能量线性度和频率线性度的测量方法。

5.根据权利要求4所述的测量方法,其特征在于所述的光刻机能量传感器的重复性的测量方法,包括步骤为:

开打光源,计算机通过所述的多功能信号处理卡(9)驱动所述的转动控制器(8),使测量光衰减片偏转一定角度,得到一定光强的测量光束;

光源(1)输出一定重复频率的光束;

待测能量传感器和参考能量传感器同时测量一定时间,并记录测量光束和参考光束的光强;

关闭光源,以待测能量传感器测得的测量光束光强和参考能量传感器测得的参考光束光强的比值作为测量值,利用以下公式计算重复性:

μ=1nΣi=1nxi,i=1~n,]]>

σ=Σi=1n(xi-μ)2n-1,]]>

σr=σμ×100%,]]>

其中,xi为测量值,μ为测量值的平均值,n为测量的次数,σ为标准差。

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