[发明专利]溅镀设备及溅镀方法

权利要求书

1.一种溅镀设备，其特征在于，包括：

腔体（10）；

旋转靶材机构（20），设置在所述腔体（10）中部，所述旋转靶材机构（20）的相反两侧能够设置第一靶材（21a）和第二靶材（22a）；所述旋转靶材机构（20）包括旋转轴（24），并能够绕着所述旋转轴（24）旋转；以及

密封机构（30），设置在所述旋转靶材机构（20）的两侧，用于与所述旋转靶材机构（20）和所述腔体（10）耦合以将所述腔体（10）隔离成两个密封的腔室，所述两个腔室用于在其中分别设置第一基板（1）和第二基板（2），

其中所述旋转靶材机构（20）包括相对设置的第一靶材固定件（21）和第二靶材固定件（22），用于固定所述第一靶材（21a）和第二靶材（22a）。

2.如权利要求1所述的溅镀设备，其中，所述旋转靶材机构（20）还包括绝缘层（23），所述绝缘层（23）位于所述第一靶材固定件（21）和所述第二靶材固定件（22）之间。

3.如权利要求2所述的溅镀设备，其中，所述旋转靶材机构（20）还包括第一背板（25）和第二背板（26），所述第一背板（25）设置在所述第一靶材固定件（21）和所述绝缘层（23）之间，所述第二背板（26）设置在所述第二靶材固定件（22）和所述绝缘层（23）之间，所述第一背板（25）和所述第二背板（26）固定连接于所述绝缘层（23）。

4.如权利要求3所述的溅镀设备，其中，所述第一靶材固定件（21）围绕所述第一靶材（21a）并将所述第一靶材（21a）固定在所述第一背板（25）上，所述第二靶材固定件（22）围绕所述第二靶材（22a）并将所述第二靶材（22a）固定在所述第二背板（26）上。

5.如权利要求3所述的溅镀设备，其中，所述溅镀设备还包括电缆（29），所述电缆（29）设置于所述绝缘层（23）中，并分别通过所述第一背板（25）和所述第二背板（26）电性连接所述第一靶材（21a）和所述第二靶材（22a），以分别为所述第一靶材（21a）和所述第二靶材（22a）提供电力。

6.如权利要求5所述的溅镀设备，其中，所述电缆（29）的数目为两根，所述绝缘层（23）上设置有对应于每一根所述电缆（29）的电缆导入点（29a）和电缆连接点（29b），所述第一背板（25）和所述第二背板（26）上设置有对应的电缆对接点（261）以与所述绝缘层（23）上的所述电缆连接点（29b）电性连接。

7.如权利要求1所述的溅镀设备，其中，所述密封机构（30）为两组，所述两组密封机构（30）分别设置在所述旋转靶材机构（20）的两侧，每一组所述密封机构（30）包括密封圈（31）、金属结构件（32）和至少一组移动轨道（33），所述密封圈（31）设置在所述金属结构件（32）上，所述金属结构件（32）能够在所述移动轨道（33）上移动以带动所述密封圈（31）远离或靠近所述旋转靶材机构（20）。

8.如权利要求7所述的溅镀设备，其中，每一组所述移动轨道（33）为丝杆式移动轨道，所述金属结构件（32）在对应所述丝杆式移动轨道的位置具有螺纹孔，所述丝杆式移动轨道穿过所述螺纹孔，并能够转动以驱动所述金属结构件（32）远离或靠近所述旋转靶材机构（20）。

9.如权利要求7所述的溅镀设备，其中，所述腔体（10）的内壁（11）上具有环状突起（11a），所述至少一组移动轨道（33）设置在所述环状突起（11a），每一组所述密封机构（30）的所述密封圈（31）为两层密封圈，分别突出于所述金属结构件（32）的表面，并在密封时分别抵接在所述环状突起（11a）和所述第一靶材固定件（21）或所述第二靶材固定件（22）。

10.如权利要求9所述的溅镀设备，其中，所述旋转轴（24）设置于所述环状突起（11a）。

11.如权利要求2所述的溅镀设备，其中，所述旋转靶材机构（20）还包括冷却水管（28），所述冷却水管（28）设置在所述绝缘层（23）的内部或所述绝缘层（23）的两个相反表面。

12.如权利要求1所述的溅镀设备，其中，所述腔体（10）还包括多个传感器（12），所述多个传感器（12）用于在所述旋转靶材机构（20）旋转到特定位置时发出传感信号以使所述旋转靶材机构（20）停止转动。