[发明专利]一种进气系统及等离子体加工设备

权利要求书

1.一种进气系统，用于向反应腔室内输送工艺气体，其包括进气管路和进气通道，其中，所述进气通道的进气口与所述进气管路连通，所述进气通道的出气口与所述反应腔室的内部连通，工艺气体经由所述进气管路和进气通道流入所述反应腔室的内部；其特征在于，在所述进气通道的进气口与所述进气管路之间还设置有气体稳流组件，用以使流入所述进气通道的工艺气体的流动状态趋于层流状态。

2.根据权利要求1所述的进气系统，其特征在于，所述气体稳流组件包括管件和分流件，其中

所述管件的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口密封连接，用以在二者之间形成一密封空间；

所述分流件设置在所述密封空间内，用以将所述密封空间分隔为多个直线通道，所述直线通道的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口连通，并且所述多个直线通道输送所述工艺气体的方向相互平行。

3.根据权利要求2所述的进气系统，其特征在于，所述多个直线通道的通气截面积之和大于所述进气管路的通气截面积，且小于所述进气通道的通气截面积。

4.根据权利要求2所述的进气系统，其特征在于，所述直线通道为在所述分流件的外周壁上形成的直凹道，所述直凹道的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口连通；并且，多个所述直凹道相互平行。

5.根据权利要求4所述的进气系统，其特征在于，多个所述直凹道相对于所述分流件的外周壁均匀分布。

6.根据权利要求2所述的进气系统，其特征在于，所述直线通道为在所述分流件上形成的直通孔，所述直通孔的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口连通；并且，多个所述直通孔的中心线相互平行。

7.根据权利要求6所述的进气系统，其特征在于，多个所述直通孔在所述分流件的径向截面上均匀分布。

8.根据权利要求1所述的进气系统，其特征在于，所述气体稳流组件包括分流件，所述分流件的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口密封连接，并且

在所述分流件内形成有多个直通孔，所述直通孔的两端分别与所述进气管路的出气口和所述进气通道的进气口连通，并且所述多个直通孔的中心线相互平行。

9.根据权利要求8所述的进气系统，其特征在于，所述多个直通孔在所述分流件的径向截面上均匀分布。

10.根据权利要求6或8所述的进气系统，其特征在于，每个所述直通孔在所述分流件的径向截面上的投影形状包括圆形、三角形、椭圆形或多边形。

11.根据权利要求2或8所述的进气系统，其特征在于，所述分流件采用抗腐蚀的材料制作。

12.根据权利要求8所述的进气系统，其特征在于，所述多个直通孔的通气截面积之和大于所述进气管路的通气截面积，且小于所述进气通道的通气截面积。

13.根据权利要求1-9任意一项权利要求所述的进气系统，其特征在于，所述进气通道包括相互独立的中心进气通道和边缘进气通道；所述进气管路包括中心支路和边缘支路；其中

所述中心进气通道的进气口与所述中心支路连通，所述中心进气通道的出气口与所述反应腔室的内部连通，工艺气体经由所述中心支路和中心进气通道流入所述反应腔室的中心区域；

所述边缘进气通道的进气口与所述边缘支路连通，所述边缘进气通道的出气口与所述反应腔室的内部连通，工艺气体经由所述边缘支路和边缘进气通道流入所述反应腔室的边缘区域；并且

在所述中心进气通道的进气口与所述中心支路之间，以及在所述边缘进气通道的进气口与所述边缘支路之间均设置有所述气体稳流组件，用以使分别流入所述中心进气通道和边缘进气通道的工艺气体的流动状态趋于层流状态。

14.根据权利要求13所述的进气系统，其特征在于，在所述进气管路上设置有流量比例控制阀，用以控制分别流入所述中心支路和边缘支路的工艺气体的流量比例。

15.一种等离子体加工设备，包括反应腔室以及用于向所述反应腔室内输送工艺气体的进气系统，其特征在于，所述进气系统采用了权利要求1-14任意一项所述的进气系统。

16.根据权利要求15所述的等离子体加工设备，其特征在于，在所述反应腔室的顶壁上设置有中心进气口和边缘进气口，其中

所述中心进气口的两端分别与所述中心进气通道的出气口和所述反应腔室的内部连通，用以将工艺气体朝向所述反应腔室的中心区域喷出；

所述边缘进气口的两端分别与所述边缘进气通道的出气口和所述反应腔室的内部连通，用以将工艺气体朝向所述反应腔室的边缘区域喷出。