[发明专利]测距装置、测距方法和成像系统有效
申请号: | 201310134170.4 | 申请日: | 2013-04-18 |
公开(公告)号: | CN103379277A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 池本圣雄 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H04N5/232 | 分类号: | H04N5/232;H04N5/335 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李颖 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测距 装置 方法 成像 系统 | ||
1.一种测距装置,包括:
成像光学系统,被布置为形成对象的图像;
成像单元,包括被布置为获取第一图像和第二图像的像素组,所述第一图像和第二图像是由分别主要通过成像光学系统的出射光瞳的第一光瞳区域和第二光瞳区域的光束形成的;和
计算单元,
其中,所述计算单元被配置为:通过用校正的第一图像修正函数对第一图像执行卷积积分来创建第三图像,并且通过用校正的第二图像修正函数对第二图像执行卷积积分来创建第四图像,并且通过比较第三图像和第四图像来计算到对象的距离,
其中,通过使各质心位置分别与最接近质心位置的采样点一致,形成校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数,所述各质心位置是基于各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点的数据而计算的,各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点与像素组的像素布置对应,以及
其中,以最接近质心位置的采样点为基准点,执行卷积积分。
2.根据权利要求1的测距装置,其中,通过用一维函数在各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点的数据之间内插,并且通过使用在以质心位置与基准点之间的差值从各采样点偏移的位置处被用一维函数内插的值,获取校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数。
3.根据权利要求1的测距装置,其中,通过将由下式表达的预定值加到各第一图像修正函数和第二图像修正函数的采样点的数据上,获取校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数:
这里,
δL:预定值
i:与图像修正函数的采样点对应的序号
n:用于测距的采样点的数量
xi:采样点的坐标
Li:图像修正函数的采样点的数据
g:基于图像修正函数的采样点的数据计算的质心位置
δx:质心位置g与基准点之间的间隙量。
4.根据权利要求1的测距装置,其中,所述计算单元被配置为:通过比较第一图像和第二图像来计算到对象的距离,并基于计算的距离信息来形成校正的第一图像修正函数和第二图像修正函数。
5.根据权利要求1的测距装置,其中,第一图像修正函数是与第二图像对应的线扩展函数,并且,第二图像修正函数是与第一图像对应的线扩展函数。
6.根据权利要求1的测距装置,其中,第一图像修正函数是与第一图像对应的线扩展函数的反函数,并且,
第二图像修正函数是与第二图像对应的线扩展函数的反函数。
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