[发明专利]一种光蚀刻显影液的制备方法

权利要求书

1.一种光蚀刻显影液的制备方法，其特征在于，包括下列步骤： 

（1）精制混合：将三甲胺和三乙胺分别精馏精制后用甲醇吸收，加入反应釜，碳酸二甲酯经精馏精制后加入反应釜；三乙胺和三甲胺的摩尔比为0.10-0.50:1；三甲胺和碳酸二甲酯的摩尔比为0.7-1.4:1；

（2）合成：反应釜中通入氮气置换空气，控制反应系统压力在1.2MPa-3MPa，反应温度在110-130摄氏度，保持反应时间在4-8小时；反应后送至蒸发器减压回收甲醇溶剂及未反应的三甲胺和碳酸二甲酯，得到四甲基铵碳酸单甲酯和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体；

（3）水解：从蒸发器中出来的四甲基铵碳酸单甲酯和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体加过量高纯水进行水解，温度控制在68-72℃，水解时间控制在1小时，得到四甲基碳酸氢铵和三乙基单甲基碳酸氢铵的混合物水溶液；水解过程中部分水和甲醇蒸出，冷凝后回收反应副产物甲醇；

（4）精制：将水解生成的四甲基碳酸氢铵和三乙基单甲基碳酸氢铵的混合物水溶液经汽提塔进行精制，并送入离子交换树脂塔进一步去除金属离子；

（5）电解：将纯化的四甲基碳酸氢铵和三乙基单甲基碳酸氢铵的混合物导入阳离子选择性透过膜隔离的电解槽阳极室，控制阳极液位和循环量，在阴极液中注入高纯水或低浓度TMAH，并通电电解；在阳极室中分离稀四甲基碳酸氢铵和三乙基单甲基碳酸氢铵盐进入阳极液循环槽，分离电解产生气体；在阴极液得到TMAH和三乙基单甲基氢氧化铵混合铵产品；浓度范围保持在20-40%，所有金属离子浓度小于100ppb；

（6）稀释：稀释成质量浓度为0.5-25%的光蚀刻显影液。

2.根据权利要求1所述光蚀刻显影液的制备方法，其特征在于，所述步骤1中，优选地，三乙胺和三甲胺的摩尔比为0.10-0.20:1；三甲胺和碳酸二甲酯的摩尔比为0.9-1.3:1。

3.根据权利要求1所述光蚀刻显影液的制备方法，其特征在于，所述步骤1中，所述的反应釜可为间歇式反应釜或连续式高压反应釜。

4.根据权利要求1所述光蚀刻显影液的制备方法，其特征在于，所述步骤4中，所述电解槽的操作条件是：电流密度为100-10000A/m²，优选500-5000A/m²；电解温度控制在20-80℃，优选30-70℃。