[发明专利]双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液

权利要求书

1.一种双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：该抛光液专门针对双面抛光机使用，是一种含有氧化剂、阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的抛光液，含有二氧化硅、碱性化合物、表面活性剂及水。二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。氧化剂为任何可溶于水介质中的氧化剂，且其氧化势大于被抛光工件内金属的氧化势，常用的有氯酸盐、高氯酸盐、亚氯酸盐、硝酸铁、过氧化物及过硫酸盐等。碱性化合物例如是氢氧化锂、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、乙二胺、三乙醇胺、氢氧化四甲基铵等有机碱类。阴离子表面活性剂是磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂中的一种，非离子表面活性剂是聚氧乙烯型非离子表面活性剂、多元醇脂肪酸酯型非离子表面活性剂、聚醚型非离子表面活性剂中的一种。

2.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：专门针对双面抛光机使用，是一种含有氧化剂的抛光液。

3.按照权利要求2所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述的氧化剂高氯酸盐。

4.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：专门针对双面抛光机使用，是一种含有阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的抛光液。

5.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述二氧化硅是胶体二氧化硅、气相二氧化硅或者沉淀法二氧化硅。

6.按照权利要求5所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述二氧化硅磨料是胶体二氧化硅。

7.按照权利要求6所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述胶体二氧化硅的平均粒径在80nm，粒径分布85％以上。

8.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：抛光液中的二氧化硅的含量是10％-45％。

9.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述碱性化合物，一般选自无机碱或有机碱。

10.按照权利要求1所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述抛光液含有阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂两种表面活性剂。

11.按照权利要求10所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：阴离子表面活性剂一般选用磺酸型表面活性剂、羧酸型表面活性剂及硫酸脂型表面活性剂等。

12.按照权利要求10所述的双面抛光机用蓝宝石衬底抛光液，其特征在于：所述非离子表面活性剂一般选用聚氧乙烯型非离子表面活性剂、多元醇脂肪酸酯型非离子表面活性剂、聚醚型非离子表面活性剂等。