[发明专利]遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310135839.1 申请日: 2013-04-18
公开(公告)号: CN103376650A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 中绪卓;盐田大;石川达郎 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 遮光 形成 感光性 基材 组合 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法。

背景技术

例如,对于彩色显示装置中使用的滤色器而言,通常具有以被称为黑矩阵的格子状的黑色遮光层包围由红(R)、绿(G)、蓝(B)各色构成的像素的结构。

作为所述滤色器的制造方法之一,提出了以黑矩阵作为隔壁、用喷墨方式形成滤色器的着色层的方法(例如,下述专利文献1)。

另外,不只在滤色器中,有时也在各种显示装置中,通过在各像素间的边界上设置黑矩阵来实现图像的对比度提高。

黑矩阵例如使用含黑色颜料的抗蚀剂组合物、并通过光刻法而形成。作为黑色颜料,一般使用炭黑(例如,专利文献1)。

然而,在抗蚀剂组合物中存在的杂质、异物,成为产生抗蚀剂图案的瑕疵(表面缺陷)、针孔的原因。专利文献2中记载了一种抗蚀剂组合物的制造方法,为了除去在抗蚀剂溶液保管中产生的微细粒子,而包含使用具有特定电位的滤器过滤抗蚀剂组合物的工序。

另外,制造滤色器的过程中,使涂布后的膜厚均匀是重要的,因此一般添加对感光性基材组合物具有流平效果的表面活性剂(例如,专利文献3)。

上述含过滤工序的抗蚀剂组合物的制造方法中,通常是在将基材成分等全部混合后,经过过滤工序。

现有技术文献

专利文献

【专利文献1】日本特开2004-325736号公报

【专利文献2】日本特开2004-212975号公报

【专利文献3】日本特开2010-107957号公报

发明内容

制造黑矩阵时,在感光性基材、有机溶剂中存在的杂质、异物等会使黑矩阵表面产生针孔等,造成图案的不均匀化等。

为了制造不产生针孔等的高品质的黑矩阵,需要除去感光性基材、有机溶剂中的杂质、异物等。

鉴于上述情况,本发明人等发现一种方法,在制造黑矩阵时,通过将作为添加于抗蚀剂组合物中的聚合物的表面活性剂稀释后进行过滤而制造抗蚀剂组合物,由此能够制造不产生针孔等的高品质的黑矩阵。

本发明是一种遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法,其特征在于,将重均分子量为10000~50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5~10质量%后进行过滤,使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。

根据本发明,能够提供不产生针孔等的高品质的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法。

附图说明

图1是表示不均宽度评价方法的示意图。

具体实施方式

《遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法》

本发明的遮光层形成用感光性基材组合物的制造方法的特征在于,将重均分子量为10000~50000的聚合物的表面活性剂成分(H)稀释至2.5~10质量%后进行过滤,使过滤后的该表面活性剂成分(H)、感光性基材成分(A)、颜料成分(G)和有机溶剂成分(S)分散。

对于利用本发明的制造方法制造的遮光层形成用感光性基材组合物(以下有时称为感光性基材组合物。),由于稀释了的表面活性剂成分(H)(以下,称为(H)成分。)经过过滤工序,因此稀释中产生的凝聚体被除去,形成遮光层时呈现出不产生针孔等的高品质。

作为上述(H)成分,通常使用40~50质量%的浓度的市售品、合成而制备的物质,以组合物中的(H)成分的最终浓度为2.5~10质量%的方式配合在感光性基材组合物中。此时,可以是上述40~50质量%的浓度的(H)成分本身直接添加于组合物中的方法,也可以预先稀释成上述2.5~10质量%的浓度的(H)成分后制备组合物,但是需要稀释这道工序。本发明人等首次发现:由于对40~50质量%这种较高浓度的表面活性剂进行稀释,出于某些原因,该表面活性剂的一部分可能会凝聚。而且,一并发现通过预先除去该凝聚物,从而能够抑制针孔等的产生,由此完成本发明。

(H)成分

本发明中的感光性基材组合物所含的(H)成分,例如优选为侧链上具有碳数1~20的氟代烷基(其中,可以被醚键、酯键、羰基、氨基甲酸酯键中断。)和亲液性基团的聚合物。

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