[发明专利]用于制作磁瓦的溅射靶材有效
| 申请号： | 201310137367.3 | 申请日： | 2013-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN103233154A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 徐建波;祁三文;张敏;张锋锐;张燕庆 | 申请（专利权）人： | 山西汇镪磁性材料制作有限公司 |
| 主分类号： | C22C28/00 | 分类号： | C22C28/00;C23C14/34 |
| 代理公司： | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人： | 朱源 |
| 地址： | 030006 *** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制作 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于：是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金，所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合，占溅射靶材总重量的范围是：大于等于80%且小于100%；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合。
2.根据权利要求1所述的用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于： 所述Ⅰ类稀土材料由Pr、Nd、Dy、Ho的一种或几种以任意比例混合；所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Cu中的一种或几种以任意比例混合。
3.根据权利要求1或2所述的用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于：呈颗粒状合金。
4.根据权利要求1或2所述的用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于：所述Ⅰ类稀土材料占溅射靶材总重量的90%以上。
5.根据权利要求3所述的用于制作磁瓦的溅射靶材，其特征在于：所述Ⅰ类稀土材料占溅射靶材总重量的90%以上。
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